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一种用于纳米压印光刻系统的两平动精密定位工作台

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本发明公开了一种用于纳米压印光刻系统的二自由度精密定位工作台，它包括基座、动平台、连接在基座底部的刚性支架以及连接在动平台和基座之间的四个柔性支链，结构中采用四个压电陶瓷驱动器，每个驱动器尾部通过螺栓与基座相连，顶端通过螺纹连接球形接头实现赫兹接触。二个位置传感器用来测量动平台的实际输出，分别固定于刚性支架和动平台之间。本精密定位工作台具有分辨率高、动态响应速度快的特点，可作为纳米压印光刻定位系统的辅助定位平台，实现微量进给和精密定位。

著录项

公开/公告号CN101770166B

专利类型发明专利
公开/公告日2011-12-28

原文格式PDF
申请/专利权人天津大学;
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申请/专利号CN201010300052.2
发明设计人田延岭;贾晓辉;张大卫;
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申请日2010-01-06
分类号G03F7/00(20060101);
代理机构12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所;
代理人王丽英
地址 300072 天津市南开区92号
入库时间 2022-08-23 09:08:34

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2011-12-28

授权

授权
2010-09-08

实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/00 申请日:20100106

实质审查的生效
2010-07-07

公开

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