机译:制造基于钕铁硼的稀土粉或溅射靶,基于钕铁硼的稀土粉或溅射靶以及基于钕铁硼的薄膜的稀土或稀土的制备工艺
公开/公告号WO2015019513A1
专利类型
公开/公告日2015-02-12
原文格式PDF
申请/专利号WO2013JP82529
发明设计人 SAWATARI HIRONOBU;
申请日2013-12-04
分类号B22F9/08;B22F1;C23C14/34;H01F1/057;C22C38;
国家 WO
入库时间 2022-08-21 15:08:24