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DEFECT MODIFYING METHOD OF GRAY TONE MASK, MANUFACTURING METHOD OF GRAY TONE MASK, AND GRAY TONE MASK

机译:灰色调面膜的缺陷修饰方法,灰色调面膜的制造方法和灰色调面膜

摘要

A defect modifying method of a gray tone mask, a manufacturing method of a gray tone mask, and a gray tone mask are provided to correct a defect generated from a semi-transparent part by forming a correcting layer in a layer forming area. A semi-transparent layer and a light shielding layer are formed on a transparent substrate(24). A semi-transparent part is formed by using the semi-transparent layer. A defect part is defined in the semi-transparent part when a defect is generated in the semi-transparent part. A layer forming unit and a layer forming material are determined to form a correcting layer(27a,27b) in the defect part. A layer forming area is determined by using the layer forming unit and the layer forming material. The correcting layer is formed in the determined layer forming area.
机译:提供了灰阶掩模的缺陷修正方法,灰阶掩模的制造方法和灰阶掩模,以通过在层形成区域中形成校正层来校正从半透明部分产生的缺陷。在透明基板(24)上形成半透明层和遮光层。通过使用半透明层形成半透明部分。当在半透明部分中产生缺陷时,在半透明部分中定义缺陷部分。确定层形成单元和层形成材料以在缺陷部分中形成校正层(27a,27b)。通过使用层形成单元和层形成材料来确定层形成区域。校正层形成在确定的层形成区域中。

著录项

  • 公开/公告号KR101242328B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-03-12

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20080017567

  • 发明设计人 사까모또 유지;

    申请日2008-02-27

  • 分类号H01L21/027;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:34

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