要解决的问题:提供一种用于校正灰色色调掩模的缺陷的方法,通过该方法可以适当地校正在半透明部分中引起的缺陷。
解决方案:本发明提供了用于校正具有减少了要使用的曝光光量的遮光部分21,半透明部分22和半透明部分23的灰度掩模20的缺陷的方法。当使用掩模时,以预定的量,其中半透明部分23由半透明膜26形成。该方法包括以下步骤:当在半透明膜中引起缺陷时,指定缺陷部分51、52。半透明部分23;在包括缺陷部分51、52并被另一遮光部分和/或半透明部分包围的区域中的半透明部分23中去除整个半透明膜26;在去除了半透明膜26的区域53中,形成与上述半透明膜26不同的材料或组成的半透明校正膜27。
版权:(C)2009,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2009014934A
专利类型
公开/公告日2009-01-22
原文格式PDF
申请/专利号JP20070175544
申请日2007-07-03
分类号G03F1/08;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 19:42:28