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屏蔽罩

屏蔽罩的相关文献在1981年到2023年内共计2704篇,主要集中在电工技术、无线电电子学、电信技术、金属学与金属工艺 等领域,其中期刊论文120篇、会议论文11篇、专利文献113154篇;相关期刊93种,包括科技视界、西安交通大学学报、模具制造等; 相关会议11种,包括中国电机工程学会高电压专业委员会2015年学术年会、第十二届全国低温工程大会、2011年中国电机工程学会年会等;屏蔽罩的相关文献由4109位作者贡献,包括张道勇、胡春勇、汤永锋等。

屏蔽罩—发文量

期刊论文>

论文:120 占比:0.11%

会议论文>

论文:11 占比:0.01%

专利文献>

论文:113154 占比:99.88%

总计:113285篇

屏蔽罩—发文趋势图

屏蔽罩

-研究学者

  • 张道勇
  • 胡春勇
  • 汤永锋
  • 严若均
  • 张先军
  • 赵越
  • 葛杨波
  • 吴汉章
  • 王国胜
  • 王智勇
  • 期刊论文
  • 会议论文
  • 专利文献

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作者

    • 杨旭; 韦晓星; 张长虹; 黎卫国; 杨洋; 黄忠康
    • 摘要: 文中介绍了某台550 kV罐式断路器处于热备用状态下发生内部放电的故障情况并进行详细的原因分析。从故障发生后的诊断性试验、解体检查、电场仿真3个方面开展全面分析,分析发现放电根本原因为异物在CT罐体屏蔽罩处引起场强畸变,导致发生间隙放电。此外,文中结合断路器结构研究了不同尺寸常见金属微粒在CT罐体处不同位置对电场的影响,仿真发现在当金属微粒的高度达到2 mm时,在屏蔽罩处最容易引起放电,CT罐体处盆式绝缘子不论凹沿面朝上还是凸沿面朝上,当微粒尺寸达到一定大小时,均可能引起放电。最后,针对事故原因,提出相应的处理措施。
    • 李奎; 李常宇; 牛峰; 罗晨; 武一
    • 摘要: 漏电断路器作为低压配电系统中重要的保护装置,主要用于防止漏电火灾事故发生和保护人身触电安全。电磁式漏电断路器在受到外界磁场干扰时,会引起漏电保护工作特性的变化甚至损坏。通过分析电磁式漏电断路器工作特性,发现磁脱扣器对外界磁场最为敏感,平行于磁脱扣器磁路平面方向的外界磁场对其影响最大;进行了漏电断路器内部导体结构的最优设计,内部导体与磁脱扣器磁路在同一平面内时导体中负荷电流产生的磁场对磁脱扣器的影响最小;设计了一种用于降低磁场干扰的磁脱扣器屏蔽罩,并分析了不同导磁屏蔽材料及结构等对其屏蔽效果的影响。通过对电磁式漏电断路器内走线的优化设计和磁脱扣器的磁屏蔽设计,有效降低了外界磁场和内部负荷电流对电磁式漏电断路器的影响,提高了其抗空间磁场干扰的能力,并通过了实验验证。
    • 摘要: 近日,国家药品监督管理局经审查,批准了佛山瑞加图医疗科技有限公司生产的“移动式头颈磁共振成像系统”的创新产品注册申请。该成像系统由永磁磁体、梯度放大器、梯度匀场线圈、射频放大器、射频发射线圈、头线圈(可选)、头颈联合线圈(可选)、谱仪、温度控制器、数字匀场单元、移动装置、屏蔽罩、病床和报警单元组成,供头部、颈部临床MRI诊断。
    • 滕斌; 王希亮; 庄严; 胡晋波
    • 摘要: 分析了密集小孔多工位成形工艺,介绍了密集小孔冲压工艺难点及模具零件加工工艺优缺点,确定密集小孔凸模结构和加工精度工艺要求,优化模具凸模、凹模、凹模护套、凹模板、凸模固定座等零件的加工工艺。生产实践证明:模具结构稳定可靠,能保证零件成形质量,为此类零件的模具设计提供参考。
    • 叶萍; 周倩; 董良
    • 摘要: 在电子元件常用的屏蔽罩表面电镀Ni-Co/SiO2复合镀层,并施加超声波以强化电镀过程.研究了超声波功率对镀层中SiO2颗粒含量以及镀层表面形貌、显微结构和耐蚀性的影响.结果表明:适当提高超声波功率有利于改善镀层表面形貌,并提高镀层中SiO2颗粒含量,使镀层表现出越来越好的耐蚀性.但超声波功率超过一定范围后,镀层中SiO2含量下降,镀层表面形貌也随之变差,导致耐蚀性下降.超声波功率提高对镀层衍射峰的数量、位置以及晶格常数基本没有影响.当超声波功率为240 W时,镀层表面形貌和耐蚀性相对最好,该镀层适合应用在屏蔽罩上,有望进一步改善屏蔽罩的耐蚀性.
    • 陈冠华; 李翠; 郭富城; 厉彦忠
    • 摘要: 针对屏蔽罩温度波动导致冷冻靶燃料冰层均匀性降低的问题,基于用户自定义函数和离散坐标辐射模型,研究了辐射环境变化时黑腔冷冻靶系统的温度场动态特性,得到套筒吸收率和封口膜透射率等参数对靶丸表面温度场稳定性、均匀性的影响规律.结果表明:屏蔽罩温度波动有两条传播路径,路径一为屏蔽罩封口膜靶丸,路径二为屏蔽罩套筒金腔氦气腔靶丸;典型工况下屏蔽罩振幅10 K的温度波动到靶丸外壁时衰减为0.85 m K,黑腔系统各表面温度振幅由大到小为靶丸外壁、套筒外壁、套筒内壁、金腔内壁;当封口膜透射率较小时减小套筒吸收率,或封口膜透射率较大时增大套筒吸收率,或减小封口膜透射率,均可显著提高靶丸表面温度场稳定性和均匀性.
    • 张山; 武晓红
    • 摘要: 根据屏蔽罩零件四周都要折弯的特点,在级进模的最后工步采用连剪带折的复合工步,解决了该类封闭弯曲件没有可供连料位置时制件的输送问题.该模具采用压缩空气吹件,保证了制件出件顺畅.
    • 刘源; 陈玉材
    • 摘要: 真空断路器分闸时产生的金属蒸汽在屏蔽罩内壁冷凝后形成金属毛刺缺陷,导致灭弧室内电场分布产生畸变,对真空灭弧室的可靠性产生不利影响.为此,以使用ZN28断路器的真空灭弧室为研究对象,建立对应的缺陷模型,研究在燃弧时因焦耳热产生的铜离子蒸汽的扩散规律,进而对存在金属毛刺缺陷时灭弧室电场的畸变情况进行分析.结果表明:在真空与电场的共同作用下,铜离子在屏蔽罩的落点主要集中在距中轴线25 mm以内的范围,概率分布曲线呈双峰形分布;当屏蔽罩内壁存在金属毛刺缺陷时,触头边缘的电场发生畸变,毛刺峰值越高,电场畸变越严重,当毛刺峰为0.25 mm时,真空灭弧室存在引起局部放电可能性.
    • 杜道忠; 吴中友; 王智勇; 张广泰; 方太勋
    • 摘要: 在高压直流断路器的结构设计中,整个设备中的场强大小和分布至关重要.在设计前期,利用仿真软件Ansoft对结构场强进行分析,发现边界条件的设置不同时,仿真结果不同.为了研究默认边界条件和实体边界条件两种情况下场强的不同之处,分别在两种情况下对高压直流断路器的屏蔽罩进行了电场强度的仿真分析.结果表明,在边界条件设置为实体边界时,电场强度的最大值较大,但两种情况下的最大场强分布位置基本相同.因此,在利用Ansoft仿真时,建议根据现场情况,边界条件设置为实体边界条件.
    • 阳骁
    • 摘要: 本文利用Ansoft Maxwell软件对12kV无屏蔽罩真空灭弧室的电场和电位分布进行了仿真,优化结果表明该结构最大场强位于触头之间,为1.32MV/m.该结构在低成本小型化断路器中有较好应用前景.
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