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衬底温度和沉积气压对射频磁控溅射制备的Mo薄膜结构特性及电学特性的影响

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本文采用射频磁控溅射法制备了铜铟镓硒(CIGS)电池中的金属钼(Mo)背电极.分别研究了衬底温度(室温-250)和沉积气压(2mTorr-12mTorr)对Mo薄膜的结构特性和电学特性的影响.利用AFM,XRD和Hall等测试手段对薄膜进行了表面形貌、微观结构和电学特性表征.实验结果表明:衬底温度和沉积气压对于薄膜的结晶取向和形貌有明显的影响,其中温度在小范围内影响了(211)峰的强度,使得两个峰的强度比(I110/I211)有所变化.本实验中最适宜的条件是200,3mTorr,350W,此时薄膜峰强度比值适当,电阻率最小.

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来源
《第十四届中国光伏大会暨2014中国国际光伏展览会》|2014年|23-27|共5页
会议地点北京
作者
贺瑞霞; 张晓丹; 张力; 许盛之; 孙建; 张德坤; 魏长春; 赵颖;
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作者单位

中国可再生能源学会;

中国光伏行业协会;

国家可再生能源中心;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类太阳能电池;
关键词
太阳能电池; 铜铟镓硒薄膜; 射频磁控溅射法; 结构特性; 电学特性;

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