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挑战特征线宽＜100nm的半导体设备

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摘要

目前一个庞大的半导体设备产业,支撑着快速发展并走向极限的半导体产业.在进入新千年的时候,半导体技术即将跨越特征线宽100nm技术节点的时候,半导体设备厂商已在积极进行研发,赶在大生产来临之前提供商品化产品.本文就一些关键问题作一介绍.

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来源
《第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|2001年|10-15|共6页
会议地点成都
作者
董大为;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类半导体器件制造工艺及设备;特种结构材料;
关键词
特征线宽; 半导体设备; 半导体技术; 纳米材料; 光刻; 刻蚀;

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