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Modeling approaches for band-structure calculation in III-V FET quantum wells

机译:III-V FET量子阱中能带结构计算的建模方法

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摘要

We compare band-structure calculations obtained with modeling approaches hierarchically spanning from density functional theory to tight-binding, k·p and non-parabolic effective mass descriptions. We consider III-V quantum-wells with thickness ranging from 3nm to 10nm. Comparison with experiments for unstrained and strained InGaAs quantum-wells is also reported.
机译:我们比较了通过建模方法获得的能带结构计算,这些建模方法从密度泛函理论到紧束缚,k·p和非抛物线有效质量描述分层跨越。我们考虑厚度范围为3nm至10nm的III-V量子阱。还报道了与未应变和应变的InGaAs量子阱的实验比较。

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