OPC methods to improve image slope and process window

机译：OPC改善图像斜率的方法和处理窗口

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In this paper, we use the gradient of the image slope and gradient of the edge placement error (EPE) in order to improve both slope and EPE during OPC. The EPE gradient taken with respect to edge position is normally called MEEF or more generally, the MEEF matrix. Use of the gradient of image slope with respect to change in edge position is a relatively new concept, introduced by Granik as the "contrast matrix". Whereas traditional OPC techniques focus on EPE alone (pattern fidelity), we broaden the scope of OPC to maximize slope for improved image robustness and to maximize process window.

机译：在本文中，我们使用图像斜率的梯度和边缘放置误差（EPE）的梯度来改善OPC期间的斜率和EPE。相对于边缘位置获取的EPE梯度通常称为MEEF，或更笼统地称为MEEF矩阵。使用相对于边缘位置变化的图像斜率梯度是一个相对较新的概念，由Granik作为“对比度矩阵”引入。尽管传统的OPC技术仅关注EPE（图案保真度），但我们扩大了OPC的范围，以最大程度地提高斜率以提高图像的鲁棒性并最大化处理窗口。

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来源
《Design and Process Integration for Microelectronic Manufacturing II》|2003年|p.116-125|共10页
会议地点 Santa Clara CA(US)
作者
Nick Cobb; Yuri Granik;
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作者单位

Mentor Graphics Corp., 1001 Ridder Park Drive, San Jose, California 95131;

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会议组织
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类无线电电子学、电信技术;
关键词
MEEF; OPC; process window;

机译：MEEF; OPC;过程窗口;

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