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【24h】

Next generation lithography mask inspection

机译：下一代光刻面膜检查

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KLA-Tencor and industry partners are collaborating on a project for developing early capabilities of inspecting NGL masks. The project, partially funded by NIST as part of the ATP program, is focusing on building a research tool that will provide experimental data for development fo a production capable tool. Some of the key technical issues include contrast in transmission and reflection, defect sources and types, and maintaining mask cleanliness in the absence of pellicles. The masks need to be inspected at multiple process stages, starting with unpatterned substrates, and ending with the pattern inspection. System issues include defect sensitivity and inspection time, which need to be balanced.
机译：Kla-Tencor和Industry Partners正在合作开发检查NGL面具的早期能力的项目。作为ATP计划的一部分，部分资助的项目专注于建立一个研究工具，该工具将为生产能力工具的开发提供实验数据。一些关键的技术问题包括传输和反射，缺陷源和类型的对比，并且在没有颗粒的情况下保持掩模清洁度。需要在多个过程阶段检查掩模，从未图案化的基板开始，并以图案检查结束。系统问题包括缺陷灵敏度和检查时间，需要平衡。

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