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Modeling the fabrication of nano-optical structures

机译：建模纳米光学结构的制造

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Over the last two decades, considerable research has been devoted to micro-optic and now nano-optical structures. Fabrication methods have become sufficiently mature to realize most concepts, but due to physics inherent in the process, geometry is distorted. Edges are rounded, sidewalls are sloped, surfaces are rough, and etching or deposition not uniform. Deviations from "perfect" geometry can dramatically affect optical behavior. In order to address the impact of the "non-perfect" nature of fabrication, numerical methods for modeling fabrication is discussed and quantified for various examples. As an example, comprehensive modeling of near-field nano-patterning is described. Numerical and experimental results are presented of three-dimensional photonic crystals fabricated in a contact mask aligner using a standard UV lamp as the source.
机译：在过去的二十年中，微型和现在纳米光学结构已经专门研究了相当大的研究。制造方法已经充分成熟以实现大多数概念，但由于该过程中固有的物理，几何扭曲。边缘圆形，侧壁是倾斜的，表面粗糙，蚀刻或沉积不均匀。 “完美”几何形状的偏差可以显着影响光学行为。为了解决制造的“非完美”性质的影响，讨论和量化用于建模制造的数值方法以进行各种实例。作为一个例子，描述了近场纳米图案的综合建模。使用标准UV灯作为源的标准UV灯呈现在接触掩模对准器中制造的三维光子晶体的数值和实验结果。

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