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Modeling the fabrication of nano-optical structures

机译：建模纳米光学结构

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Over the last two decades, considerable research has been devoted to micro-optic and now nano-optical structures. Fabrication methods have become sufficiently mature to realize most concepts, but due to physics inherent in the process, geometry is distorted. Edges are rounded, sidewalls are sloped, surfaces are rough, and etching or deposition not uniform. Deviations from "perfect" geometry can dramatically affect optical behavior. In order to address the impact of the "non-perfect" nature of fabrication, numerical methods for modeling fabrication is discussed and quantified for various examples. As an example, comprehensive modeling of near-field nano-patterning is described. Numerical and experimental results are presented of three-dimensional photonic crystals fabricated in a contact mask aligner using a standard UV lamp as the source.
机译：在过去的二十年中，大量的研究致力于微光学和现在的纳米光学结构。制造方法已经足够成熟，可以实现大多数概念，但是由于该过程固有的物理特性，几何形状会失真。边缘是圆形的，侧壁是倾斜的，表面是粗糙的，蚀刻或沉积不均匀。与“完美”几何形状的偏差会极大地影响光学性能。为了解决制造的“非完美”性质的影响，针对各种示例讨论并量化了用于建模的数值方法。作为示例，描述了近场纳米图案的综合建模。数值和实验结果显示了使用标准紫外灯作为光源在接触掩模对准器中制造的三维光子晶体。

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