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硅基氮化镓增强型功率器件场控机理与新结构研究

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第一章 绪 论

1.1 GaN-on-Si增强型功率器件发展概述

1.2 研究工作的意义

1.3 本文的主要研究内容

第二章 GaN-on-Si增强型功率器件基础

2.1 GaN材料基础

2.2 GaN-on-Si功率器件基础

2.3 本章小结

第三章 GaN-on-Si增强型功率器件场控能带模型

3.1 GaN-on-Si增强型功率器件场控能带机理

3.2 陷阱电荷对2DEG浓度的影响

3.3 陷阱电荷分布函数的微分分析法

3.4 本章小结

第四章 GaN-on-Si增强型功率器件场控新结构及凹槽工艺

4.1 GaN-on-Si场控能带逆阻型功率器件

4.2 GaN-on-Si场控隧穿逆阻型功率器件

4.3 高温低损伤凹槽刻蚀工艺

4.4 本章小结

第五章 GaN-on-Si增强型功率器件的场致退化机理

5.1 重复脉冲过电流实验

5.2 场致退化机理

5.3 本章小结

第六章 总结与展望

6.1 全文总结

6.2 后续工作展望

致谢

参考文献

攻读博士学位期间取得的成果

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著录项

  • 作者

    施宜军;

  • 作者单位

    电子科技大学;

  • 授予单位 电子科技大学;
  • 学科 微电子学与固体电子学
  • 授予学位 博士
  • 导师姓名 陈万军;
  • 年度 2019
  • 页码
  • 总页数
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类
  • 关键词

    硅基; 氮化镓; 增强型; 功率器件; 机理;

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