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双重图形推动浸没式光刻继续前进

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随着高折射率浸没式光刻看起来并不比其他光刻方案更有希望,业界现在开始热烈地讨论双重图形。

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《集成电路应用》 |2007年第4期|26-29|共4页
作者
Aaron Hand;
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