UV-LIGA光刻设备研究

著录项

• 来源
  《电子工业专用设备》 |2000年第4期|26-29|共4页
• 作者

  余国彬; 姚汉民; 胡松; 王兆志; 林大健;

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• 作者单位

  中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;

  中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  LIGA技术; UV-LIGA技术; 光刻设备;