直流磁控溅射制备TiO2薄膜及其光响应研究

江伟; 王怡; 武光明; 邢光建; 韩彬

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直流磁控溅射制备TiO2薄膜及其光响应研究

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研究了制备工艺与热处理对TiO2薄膜光响应的影响.用直流反应磁控溅射法在玻璃基片上制备TiO2薄膜,并分别在400℃与600℃下进行热处理,应用XRD、SEM、UV-Vis等分析方法对其进行表征.实验结果表明较高的温度与适当的氧分压可以提高薄膜的结晶度,随着温度的升高,薄膜晶粒粒径增大,其可见光透过率有所降低,而使薄膜的吸收阈值向长波方向移动.

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来源
《北京石油化工学院学报》 |2008年第3期|60-63|共4页
作者
江伟; 王怡; 武光明; 邢光建; 韩彬;
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作者单位

北京化工大学,北京,100029;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京石油化工学院,北京,102617;

北京化工大学,北京,100029;

北京石油化工学院,北京,102617;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类钛副族（ⅣB族金属元素）;
关键词
TiO2薄膜; 直流磁控溅射; 光响应;

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