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李嘉; 王建琨; 王绍君;
山东工业大学电机工程系;
电子束; 曝光; 邻近效应; 校正;
机译:基于光学邻近效应校正的受限光学邻近效应校正模式生成-基于模型的光学邻近效应校正中的可制造性规则设计
机译:考虑到抗蚀剂显影过程的掩膜版的邻近效应校正
机译:通过10nm节点工艺的混合光学邻近效应校正建模和收缩校正技术提高光学邻近效应校正模型的准确性
机译:低剂量电子束曝光下显影抗蚀剂的线边缘粗糙度
机译:使用线性编程技术实施电子束邻近效应校正,以制造非对称领结天线。
机译:校正:GDF11 / BMP11激活smad1 / 5/8和smad2 / 3信号但对人脐静脉内皮细胞的增殖和迁移没有明显影响
机译:邻近效应测量和校正的电气测试结构
机译:综合邻近效应校正方案的研制。
机译:电子束曝光的邻近效应校正方法,半导体器件的曝光方法,制造方法和邻近效应校正模块
机译:光学邻近效应校正方法,光学邻近效应校正装置,光学邻近效应校正程序,制造半导体装置的方法,图案设计限制开发方法和光学邻近效应校正的计算方法
机译:光学邻近效应校正方法和装置,光学邻近效应验证方法和装置,曝光掩模的制造方法,进一步的光学邻近效应校正程序和光学邻近效应验证程序
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