电子束曝光中的邻近效应修正技术

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• 来源
  《微细加工技术》 |2000年第1期|16-20|共5页
• 作者

  刘明; 陈宝钦; 张建宏; 李友;

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• 作者单位

  中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京100029;

  中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京100029;

  中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京100029;

  中国科学院微电子中心光掩模实验室,北京100029;

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• 原文格式 PDF
• 正文语种 chi
• 中图分类 光刻、掩膜;
• 关键词

  电子束曝光; 邻近效应;