压强对直流磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响

史新伟; 周强; 马群超; 李杏瑞; 姚宁; 安子凤

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压强对直流磁控溅射TiN薄膜光学性能的影响

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使用直流磁控溅射设备,不同压强下在玻璃衬底上制备了系列TiN薄膜.采用紫外-可见光分光光度仪测试了样品的光学性能,采用四探针法测量了样品的方块电阻.研究了溅射沉积过程中压强对TiN薄膜光学性能的影响.结果表明,随着反应压强的增大,TiN薄膜在可见光区透射率增强,反射率降低;薄膜厚度减小,方块电阻增大,中远红外光区的反射率降低.

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来源
《郑州大学学报（理学版）》 |2018年第4期|58-63|共6页
作者
史新伟; 周强; 马群超; 李杏瑞; 姚宁; 安子凤;
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作者单位

郑州大学物理工程学院河南郑州450001;

郑州大学物理工程学院河南郑州450001;

郑州大学物理工程学院河南郑州450001;

郑州大学材料科学与工程学院河南郑州450001;

郑州大学物理工程学院河南郑州450001;

郑州大学物理工程学院河南郑州450001;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类功能材料;薄膜物理学;
关键词
氮化钛; 直流磁控溅射; 压强; 光学性能;

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