纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究

严乐; 李寒松; 刘红忠; 卢秉恒

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纳米压印光刻中抗蚀剂膜厚控制研究

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研究了纳米压印光刻匀胶工艺中抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速、匀胶时间和滴胶量之间的关系.实验研究表明,抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间均呈幂指数关系;当匀胶转速达到一定值,匀胶时间足够大时,膜厚不再随匀胶时间变化而变化,存在最小厚度,即抗蚀剂膜厚与滴胶量无关.建立了抗蚀剂膜厚与抗蚀剂粘度、匀胶转速和匀胶时间之间的量化关系公式,实现了对抗蚀剂膜厚的控制.

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来源
《机械设计与制造》|2010年第4期|201-203|共3页
作者
严乐; 李寒松; 刘红忠; 卢秉恒;
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作者单位

南京航空航天大学,机电学院,南京,210016;

南京航空航天大学,机电学院,南京,210016;

西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049;

西安交通大学,机械制造系统工程国家重点实验室,西安,710049;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类机构学;机械振动学;
关键词
纳米压印光刻; 抗蚀剂; 匀胶; 膜厚控制;
入库时间 2023-07-24 19:35:18

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