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辉光放电电子束瞬态退火研究

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摘要

辉光放电电子束已成功用于半导体浅结掺杂和离子注入后的退火处理。本文介绍了用自制的辉光放电电子束机分别对硅中注硼、注砷的损伤进行退火的研究,并与热退火和白光退火结果进行了比较。

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来源
《微细加工技术》 |1993年第2期|37-40|共4页
作者
李秀琼; 卢殿通;
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作者单位

不详;

不详;

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原文格式 PDF
正文语种 CHI
中图分类掺杂;
关键词
半导体; 掺杂; 离子注入; 退火; 辉光放电;

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