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叶卉; 李亚国; 姜晨; 陈起;
上海理工大学机械工程学院 上海200093;
中国工程物理研究院激光聚变研究中心 绵阳621900;
激光损伤性能; 熔石英; 氢氟酸湿法刻蚀; 刻蚀沉积物; 表面粗糙度;
机译:磁力抛光法研究氮化物硅陶瓷部件的研究:湿法处理中的抛光特性
机译:使用无金且应力降低的溅射Cr硬掩模进行深熔石英湿法刻蚀
机译:通过简单的湿法化学刻蚀技术可控地修饰ZnO纳米阵列/棒的末端形状
机译:光刻前的GaAs表面处理可改善湿法化学刻蚀过程中的光刻胶附着力并改善湿法刻蚀曲线
机译:通过抛光湿法蚀刻方法改善基于模板的碳纳米管阵列纳米成制造方法
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:使用湿法化学刻蚀制造纳米结构
机译:红外光学元件的金刚石车削和抛光。
机译:湿法脱金属沉积的抛光方法,抛光去皮的方法,抛光工件的设备,设备去皮缸。零件的处理缺陷,抛光的维持单元圆柱体,并进行ecculode抛光。
机译:HCl水溶液中湿法化学刻蚀制备ZnO纳米晶及其制备方法
机译:盐酸水溶液中湿法化学刻蚀制备Zno纳米晶及其制备方法
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