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谭刚; 吴嘉丽;
中国工程物理研究院电子工程研究所;
SiH2CL2-NH3-N2体系; LPCVD; 氮化硅薄膜; 淀积速率;
机译:LPCVD法在ITO玻璃衬底上生长的ZnO:B薄膜的纳米结构的生长,表征和分析:硼掺杂效应的研究
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机译:具有HFO_2,Si_3N_4和SiO_2介电层的ZnO基薄膜晶体管DC,UV和RF特性的性能分析,用于光电应用
机译:Al / Si_3N_4体系中影响反应产物可湿性,结构和化学性的因素
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机译:深水峡谷体系控制因素分析—以南海北部琼东南盆地中央峡谷体系为例
机译:用俄歇电子能谱研究影响薄膜和表面分析的因素。
机译:质量影响因素分析方法,质量预测方法,质量控制方法,质量影响因素分析装置,质量预测装置,质量控制装置,质量影响因素分析系统,质量预测系统,质量控制系统和计算机程序
机译:质量影响因素分析方法,质量预测方法,质量控制方法,质量影响因素分析设备,质量预测设备,质量控制设备,质量影响因素分析系统,质量预测系统,质量控制和质量控制方法
机译:影响DNA环化的因素分析,影响DNA整合的因素分析,因素及其用途
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