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Investigation of Nano Structural Changes by Annealing Temperature and Uniform Oxygen Flow on Ti Layers

机译：退火温度和均匀氧流对钛层的纳米结构变化的研究

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Problem statement: Ti films of the same thickness, deposition angle (near normal) and deposition rate were deposited on glass substrates at room temperature under UHV conditions. Approach: Different annealing temperatures 423 K, 523 K and 623 K with uniform 7 cm~3 sec~(-1), oxygen flow, were used to produce titanium oxide layers. Results: Thin film structures were studied using AFM, XRD and spectrophotometer methods. Roughness of the films changed due to annealing process. Conclusion/Recommendations: The getting property of Ti and annealing temperature can play an important role on the structure of the films.
机译：问题陈述：在室温下，UHV条件下，在玻璃基板上沉积厚度，沉积角度（接近法线）和沉积速率相同的Ti膜。方法：采用不同的退火温度423 K，523 K和623 K，以均匀的7 cm〜3 sec〜（-1）的氧气流量生产氧化钛层。结果：使用AFM，XRD和分光光度计方法研究了薄膜结构。膜的粗糙度由于退火过程而改变。结论/建议：Ti的获取性能和退火温度对薄膜的结构起着重要的作用。

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