化学溶液堆積法による誘電体薄膜の作製

細倉　匡

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化学溶液堆積法による誘電体薄膜の作製

机译：化学溶液沉积法制备介电薄膜

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化学溶液堆積（CSD）法は安価，簡便，低エネルギーの手法で，大量生産を行うには欠かせないプロセスとして様々な膜形成に用いられている。近年，CSD法を利用した誘電体薄膜の形成においてナノレベルでの制御が可能になってきており，革新的な機能性薄膜作製のキーテクノロジーとして期待されている。本稿ではCSD法を用いてナノレベルでの制御をした誘電体薄膜作製例について紹介する。

机译：化学溶液沉积（CSD）方法是一种廉价，简单且低能耗的方法，并且作为大量生产必不可少的工艺，可用于各种成膜过程。近年来，在使用CSD方法形成电介质薄膜中实现纳米级控制已成为可能，并且有望将其作为生产创新功能薄膜的关键技术。在本文中，我们介绍了使用CSD方法在纳米水平上控制电介质薄膜的示例。

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来源
《機能材料》 |2013年第1期|46-50|共5页
作者
細倉　匡;
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作者单位

㈱村田製作所　技術・事業開発本部　材料開発統括部　材料開発2部;

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