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Technology for Fabrication of Nanostructures by Standard Cleanroom Processing and Nanoimprint Lithography

机译：通过标准洁净室处理和纳米压印光刻技术制造纳米结构的技术

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Sub-micron structures are routinely fabricated by electron beam lithography (EBL). However EBL is a time consuming and costly technology. We present a technology for fabrication of nanostructures by standard UV-lithography and thermal nanoimprint lithography (NIL). NIL-stamps with sub-30nm patterns are fabricated by standard micrometer resolution cleanroom processing, i.e. UV-lithography, reactive ion etching and thermal oxidation, and the pattern is transferred to a polymer thin film on a substrate by NIL. Subsequently the patterned polymer film is used either as a direct etching mask to transfer the pattern to the substrate or as a metal lift-off mask. This way we have demonstrated the fabrication of sub-100 nm nanochannels in silicon oxide and sub-50nm gold lines on silicon.
机译：通常通过电子束光刻（EBL）制造亚微米结构。但是，EBL是一项耗时且昂贵的技术。我们提出了一种通过标准的UV光刻和热纳米压印光刻（NIL）制造纳米结构的技术。通过标准的微米级分辨率洁净室处理（即UV光刻，反应离子刻蚀和热氧化）可制造出具有30nm以下图案的NIL印章，然后通过NIL将图案转移到基板上的聚合物薄膜上。随后，将图案化的聚合物膜用作直接蚀刻掩模以将图案转移到基板上或用作金属剥离掩模。通过这种方式，我们已经证明了在氧化硅中制造了低于100 nm的纳米通道以及在硅上制造了低于50nm的金线。

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