机译:氢对射频磁控溅射沉积低温多晶硅薄膜的结构和光学性能的影响
ARC Photovoltaics Centre of Excellence, University of New South Wales, Sydney, NSW 2052, Australia;
rnARC Photovoltaics Centre of Excellence, University of New South Wales, Sydney, NSW 2052, Australia;
rnYingli Green Energy Holding Co., Ltd., Baoding 071051, China;
rnARC Photovoltaics Centre of Excellence, University of New South Wales, Sydney, NSW 2052, Australia;
A1. Characterization; A1. X-ray diffraction; A3. Physical vapor deposition processes; B1. Germanium; B3. Solar cells;
机译:射频磁控溅射在低生长温度下制备的氢化硅膜的光学和结构性质:作为氩气稀释功能的研究
机译:氧和氢分压对反应性射频磁控溅射沉积ITO膜的结构和光学性能的影响
机译:衬底溅射刻蚀对射频磁控溅射沉积ZnO薄膜的微观结构和光学性能的影响
机译:直流反应磁控溅射沉积锡薄膜微观结构和光学性能的影响
机译:交流磁控溅射在低温下沉积的生物相容性氧化铝膜的性能。
机译:射频磁控溅射沉积ZnS薄膜的结构和光学性质
机译:铟和氢共掺杂对DC磁控溅射沉积的氧化锌薄膜光学和电性能的影响