液浸リソグラフィの量産立ち上げ

Frank Burkeen

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液浸リソグラフィの量産立ち上げ

机译：浸没式光刻开始量产

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スキャナヘッドとウェーハの表面の間に浸水液を通す液浸リソグラフィによってムーアの法則を維持していくことができたが、スキャナヘッドとウェーハの表面を機械的に結合することでプロセスがますます複雑になり、重大な問題を引き起こしている。その1つは、ウェーハのエッジ付近のBARC、フォトレジスト、およびトップコート膜の振る舞いである。液浸リソグラフィでは、ウェーハステージ全体で浸水液のバブルが高速で引きずられ、ウェーハエッジで津波のような現象が発生する。

机译：浸没式光刻技术（其中浸没液体在扫描仪头和晶片表面之间通过）使摩尔定律得以维持，但扫描仪头和晶片表面之间的机械耦合使工艺变得越来越复杂。造成了严重的问题。一种是在晶圆边缘附近的BARC，光致抗蚀剂和面漆膜的行为。在浸没式光刻中，浸没液的气泡在整个晶片台上高速拖动，并且在晶片边缘发生海啸状现象。

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来源
《日経マイクロデバイス》 |2007年第264期|38|共1页
作者
Frank Burkeen;
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作者单位

KLA-Tencorの製品シニアマーケティング;

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 jpn
中图分类无线电电子学、电信技术;
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