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In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement
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1.
Responsivity of GaN and (GaAl)N band-gap-graded ultraviolet p-n detectors
机译:
GaN和(GaAl)N带隙梯度紫外p-n检测器的响应度
作者:
Michal J. Malachowski
;
Military Univ. of Technology
;
Pedagogical Univ.
;
Warsaw
;
Poland
;
Kazimierz J. Plucinski
;
Military Univ. of Technology
;
Warsaw
;
Poland.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
2.
Silicide sheet resistivity and metal film stress measurements as emissivity-independent techniques for RTP temperature monitoring
机译:
硅化物薄层电阻率和金属膜应力测量作为RTP温度监测的与发射率无关的技术
作者:
Ingrid Jonak-Auer
;
Austria Mikro Systeme International AG
;
Unterpremstaetten
;
Austria.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
3.
Process and yield improvement based on fast in-line automatic defect classification
机译:
基于快速在线自动缺陷分类的工艺和良率提高
作者:
Andrew Skumanich
;
Applied Materials
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
4.
Particle issues in spin-on dielectric materials
机译:
旋涂电介质材料中的颗粒问题
作者:
Thomas R. Washer
;
Dow Corning Corp.
;
Auburn
;
MI
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
5.
Pioneering breakthroughs in implant monitor wafer cost reduction at 300 mm
机译:
减少300毫米植入物监控晶片成本的突破性进展
作者:
Jason S. Zeakes
;
Semiconductor 300 Corp.
;
Dresden
;
Germany
;
Terry A. Breeden
;
Semiconductor 300 Corp.
;
Dresden
;
Germany.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
6.
Online characterization of HSG polysilicon by AFM
机译:
AFM在线表征HSG多晶硅
作者:
Larry M. Ge
;
Digital Instruments/Veeco Metrology Group
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
M.A. el-Hamdi
;
Samsung Austin Semiconductor
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Roger Alvis
;
Digital Instruments/Veeco Metrology Group
;
Santa Barbara
;
CA
;
USA
;
S.Sawaya
;
Samsung Austin Semicond
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
7.
Influence of different materials on the thermal behavior of a CDIP-8 ceramic package
机译:
不同材料对CDIP-8陶瓷封装热性能的影响
作者:
Kirsten Weide
;
Univ. Hannover
;
Hannover
;
Germany
;
Christian Keck
;
Univ. Hannover
;
Hannover
;
Germany.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
8.
Frequency distribution modeling for high-speed microprocessors using on-chip ring oscillators
机译:
使用片上环形振荡器的高速微处理器的频率分布建模
作者:
John M. Carulli
;
Jr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Stafford
;
TX
;
USA
;
Derek C. Wrobbel
;
Texas Instruments Inc.
;
Houston
;
TX
;
USA
;
Aswin Mehta
;
Texas Instruments Inc.
;
Houston
;
TX
;
USA
;
Kenneth E. Krause
;
Jr.
;
Texas Instruments Inc.
;
Stafford
;
TX
;
USA
;
Brad E.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
9.
High-resolution tracing method for monitoring metal contaminants in silicon device manufacturing processes
机译:
用于监视硅器件制造过程中金属污染物的高分辨率跟踪方法
作者:
Hirofumi Shimizu
;
Nihon Univ.
;
Tokyo
;
Japan
;
Shuichi Ishiwari
;
Hitachi Plant Engineering Construction Co.
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
10.
Influence of metal deposition temperature on deep-submicrometer metal lithography
机译:
金属沉积温度对深亚微米金属光刻的影响
作者:
Vijaya Subramaniam
;
VLSI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA
;
Daniel D. Siems
;
VLSI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA
;
Martin P. Karnett
;
VLSI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
11.
COCOS oxide film characterization and monitoring
机译:
COCOS氧化膜表征和监测
作者:
Andrew M. Hoff
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Damon K. DeBusk
;
Cirent Semiconductor
;
Orlando
;
FL
;
USA
;
Robert W. Schanzer
;
Cirent Semiconductor
;
Orlando
;
FL
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
12.
Application of liquid crystal techniques with image processing
机译:
液晶技术在图像处理中的应用
作者:
Author(s): Satoshi Suzuki NEC Corp. Kawasaki Japan
;
Takaaki Numajiri NEC Corp. Kawasaki Japan
;
Koji Saso NEC Corp. Kawasaki Japan
;
Naoki Yoshida Nippon Scientific Co. Ltd. Tokyo Japan
;
Keiji Fujimoto Nippon Scientific Co. Ltd. Tokyo Japan
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
13.
Identification of amorphous silicon residues in a low-power CMOS technology
机译:
在低功率CMOS技术中识别非晶硅残留物
作者:
Author(s): Alexandre Acovic EM Microelectronique-Marin SA Marin Switzerland
;
Philippe A. Buffat Swiss Federal Institute of Technology Lausanne Switzerland
;
Paul Brander EM Microelectronique-Marin SA Marin Switzerland
;
Peter Jacob EM Microelectro
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
14.
Failure analysis of wafer-level reliability testing failure
机译:
晶圆级可靠性测试失败的失败分析
作者:
Chong K. Oh
;
Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Soh P. Neo
;
Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Jian H. Bi
;
Chartered Semiconductor Manufacturing Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Zong M. Wu
;
Chartere
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
15.
Using the surface charge profiler for in-line monitoring of doping concentration in silicon epitaxial wafer manufacturing
机译:
使用表面电荷分析仪在线监测硅外延晶片制造中的掺杂浓度
作者:
Joshua P. Tower
;
QC Solutions
;
Inc.
;
N Billerica
;
MA
;
USA
;
Emil Kamieniecki
;
QC Solutions
;
Inc.
;
North Billerica
;
MA
;
USA
;
M.C. Nguyen
;
Epitech Sumitomo Sitix Europe
;
Limay
;
France
;
Adrien Danel
;
CEA-LETI
;
Grenoble Cedex 9
;
France.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
16.
Analysis of phosphorous autodoping in P-type silicon measured using corona oxide silicon (COS) techniques
机译:
使用电晕氧化硅(COS)技术测量的P型硅中的磷自动掺杂
作者:
Brian Letherer
;
KLA-Tencor Corp.
;
Milpitas
;
CA
;
USA
;
Gregory Horner
;
KLA-Tencor Corp.
;
Milpitas
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
17.
Defect-free IDDQ with reverse body bias
机译:
无缺陷IDDQ,反向身体偏置
作者:
Xiaomei Liu
;
National Semiconductor Corp.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Samiha Mourad
;
Santa Clara Univ.
;
Santa Clara University
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
18.
Defect reduction strategy for plasma etch
机译:
等离子蚀刻的缺陷减少策略
作者:
Richard Y. Yang
;
KLA-Tencor Corp.
;
Milpitas
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
19.
Degradation zones of semiconductor target (Si) formed as a result of nanosecond UV laser material processing
机译:
纳秒级紫外线激光材料加工的结果形成的半导体靶(Si)的降解区
作者:
Andrew R. Novoselov
;
Institute of Semiconductor Physics
;
Novosibirsk
;
Russia
;
Anatoly G. Klimenko
;
Institute of Semiconductor Physics
;
Novosibirsk
;
Russia.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
20.
Defect detection strategies for chemical-mechanical polishing process in shallow-trench isolation a
机译:
浅沟槽隔离中化学机械抛光工艺的缺陷检测策略
作者:
Jane J. Li
;
VSLI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA
;
Albert H. Liu
;
VSLI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA
;
Scott S. Hiemke
;
VSLI Technology
;
Inc./Philips Semiconductor
;
San Antonio
;
TX
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
21.
Gate dielectric monitoring using noncontact electrical characterization
机译:
使用非接触式电气特性监测栅极电介质
作者:
Jerzy Ruzyllo
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University Park
;
PA
;
USA
;
P.Roman
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University Park
;
PA
;
USA
;
D.O. Lee
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University Park
;
PA
;
USA
;
M.Brubaker
;
The Pennsylvania State Univ.
;
University
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
22.
Fatal defect detection from visual abnormalities of logic LSI using IDDQ
机译:
使用IDDQ从逻辑LSI的视觉异常检测致命缺陷
作者:
Masaru Sanada
;
NEC Corp.
;
Osaka Univ.
;
Kawasaki Kanagawa
;
Japan
;
Hiromu Fujioka
;
Osaka Univ.
;
Osaka
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
23.
Ultrathin gate oxide degradation under different rates of charge injection
机译:
不同电荷注入速率下超薄栅极氧化物的降解
作者:
Pitsini Mongkolkachit
;
Vanderbilt Univ.
;
Nashville
;
TN
;
USA
;
Bharat L. Bhuva
;
Vanderbilt Univ.
;
Nashville
;
TN
;
USA
;
Sharad Prasad
;
LSI Logic Corp.
;
Milpitas
;
CA
;
USA
;
N.Bui
;
Vantis
;
Sunnyvale
;
CA
;
USA
;
Sherra E. Kerns
;
Vanderbilt Univ.
;
Nashville
;
TN
;
USA
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
24.
SEM-based automatic defect classification (ADC)
机译:
基于SEM的自动缺陷分类(ADC)
作者:
Fred Lakhani
;
SEMATECH
;
Austin
;
TX
;
USA
;
Wanda Tomlinson
;
IBM Corp.
;
Essex Jct
;
VT
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
25.
Properties of ultrathin gate oxides grown in N2O-based oxidation ambients by rapid thermal processing
机译:
通过快速热处理在基于N2O的氧化环境中生长的超薄栅极氧化物的性质
作者:
Y.B. Jia
;
Integrated Device Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
O.G. Pan
;
Integrated Device Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Long-Ching Wang
;
Integrated Device Technology
;
Santa Clara
;
CA
;
USA
;
Patrick Lo
;
Integrated Device Technology
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
S
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
26.
Practical manufacturing technique for reducing charge-induced gate oxide degradation during ion implantation
机译:
减少离子注入过程中电荷引起的栅极氧化物降解的实用制造技术
作者:
Kenneth G. Moerschel
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Allentown
;
PA
;
USA
;
W.A. Possanza
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
;
Allentown
;
PA
;
USA
;
James Sung
;
Vanguard Semiconductor International
;
HsinChu
;
Taiwan
;
M.A. Prozonic
;
Lucent Technologies/Bell Labs.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
27.
Application of liquid crystal techniques with image processing,
机译:
液晶技术在图像处理中的应用,
作者:
Satoshi Suzuki
;
NEC Corp.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Takaaki Numajiri
;
NEC Corp.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Koji Saso
;
NEC Corp.
;
Kawasaki
;
Japan
;
Naoki Yoshida
;
Nippon Scientific Co.
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan
;
Keiji Fujimoto
;
Nippon Scientific Co.
;
Ltd.
;
Tokyo
;
Japan.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
28.
Innovative integrated plasma tool for process and exhaust monitoring
机译:
创新的集成等离子工具,用于过程和排气监控
作者:
Eric Chevalier
;
Alcatel
;
Awnecy
;
France
;
Philippe Maquin
;
Alcatel
;
Awnecy
;
France.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
29.
In-line monitoring of chemical-mechanical polishing processes
机译:
在线监测化学机械抛光工艺
作者:
Dale L. Hetherington
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA
;
David J. Stein
;
Sandia National Labs.
;
Albuquerque
;
NM
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
30.
Innovating SRAM design and test program for fast process-related defect recognition and failure analysis
机译:
创新的SRAM设计和测试程序,可快速进行与过程相关的缺陷识别和故障分析
作者:
Peter Coppens
;
Alcatel Microelectronics
;
Oudenaarde
;
Belgium
;
Guido Vanhorebeek
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium
;
Eddy De Backer
;
Alcatel Microelectronics
;
Oudenaarde
;
Belgium
;
Xiao J. Yuan
;
IMEC
;
Leuven
;
Belgium.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
31.
Integrated yield and CD enhancement for advanced DUV lithography
机译:
集成的良率和CD增强功能可实现高级DUV光刻
作者:
Murthy S. Krishna
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Emir Gurer
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Tom X. Zhong
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
San Jose
;
CA
;
USA
;
Ed C. Lee
;
Silicon Valley Group
;
Inc.
;
Cupertino
;
CA
;
USA
;
John W. Sa
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
32.
Effect of Fe and Cu contamination on the reliability of ultrathin gate oxides
机译:
Fe和Cu污染对超薄栅氧化物可靠性的影响
作者:
John DAmico
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Lubek Jastrzebski
;
Univ. of South Florida
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Marshall Wilson
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA
;
Alexandre Savtchouk
;
Semiconductor Diagnostics
;
Inc.
;
Tampa
;
FL
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
33.
Hot-carrier degradation study of high-density plasma (HDP) oxide deposition process in deep-submicron NMOSFETs
机译:
深亚微米NMOSFET中高密度等离子体(HDP)氧化物沉积工艺的热载流子降解研究
作者:
Pei Yao
;
Chartered Semiconductor Manufacturing
;
Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Xu Zeng
;
Chartered Semiconductor Manufacturing
;
Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Keng F. Lo
;
Chartered Semiconductor Manufacturing
;
Ltd.
;
Singapore
;
Singapore
;
Qiang Guo
;
Chartered Sem
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
34.
Metal-fill optical test structures for improved chemical mechanical polishing
机译:
金属填充光学测试结构,可改善化学机械抛光
作者:
Shadi A. AbuGhazaleh
;
Univ. of Delaware
;
Newark
;
DE
;
USA
;
Phillip Christie
;
Univ. of Delaware
;
Newark
;
DE
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
35.
New sample preparation method for improved defect characterization yield on bare wafers
机译:
一种新的样品制备方法,可提高裸晶片上的缺陷表征产率
作者:
Christophe J. Roudin
;
FEI Co.
;
Hillsboro
;
OR
;
USA
;
Patrick D. Kinney
;
MicroTherm
;
LLC
;
Minneapolis
;
MN
;
USA
;
Yuri S. Uritsky
;
Applied Materials
;
Inc.
;
Santa Clara
;
CA
;
USA.
会议名称:
《In-Line Methods and Monitors for Process and Yield Improvement》
|
1999年
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