Surface-micromachined Ta-Si-N beams for use in micromechanics

Gretillat MA.; Dommann A.; Staufert G.; de Rooij NF.; Nicolet MA.; Linder C.

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Surface-micromachined Ta-Si-N beams for use in micromechanics

机译：用于微力学的表面微加工Ta-Si-N束

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Realization and characterization of free-standing surface-microstructures based on Ta-Si-N films are presented. Due to their significant physical and chemical properties, such ternary films are promising candidates for application in microelectromechanical devices. [References: 5]

机译：提出了基于Ta-Si-N薄膜的自支撑表面微观结构的实现与表征。由于它们的显着的物理和化学性质，这种三元膜是用于微机电装置中的有前途的候选者。 [参考：5]

著录项

来源
《Journal of Micromechanics and Microengineering》 |1998年第2期|共3页
作者
Gretillat MA.; Dommann A.; Staufert G.; de Rooij NF.; Nicolet MA.; Linder C.;
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作者单位

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收录信息
原文格式 PDF
正文语种 eng
中图分类仪器、仪表;
关键词
Diffusion-barriers;

机译：扩散屏障;

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