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【24h】

Sub-10-nm patterning of oligo(ethylene glycol) monolayers on silicon surfaces via local oxidation using a conductive atomic force microscope

机译：使用导电原子力显微镜通过局部氧化在硅表面上的低聚（乙二醇）单层进行亚10纳米图案化

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We demonstrate that local oxidation using a conductive atomic force microscope (c-AFM) can achieve patterning of sub-10-nm spots on protein-resistant oligo(ethylene glycol)-terminated alkyl monolayers on silicon substrates. Such a high resolution of nanopatterning with a c-AFM on organic thin films was realized for the first time by applying ultrashort (50-100 ns) voltage pulses to the silicon substrate relative to the conducting AFM tip. Furthermore, the nanopatterning can be controlled at the surface of the hydrophilic monolayer without oxidizing the silicon interface.
机译：我们证明了使用导电原子力显微镜（c-AFM）进行局部氧化可以在硅基板上的蛋白抗性寡聚（乙二醇）端接的烷基单层上实现亚10纳米点的图案化。通过在硅薄膜上施加相对于导电AFM尖端的超短（50-100 ns）电压脉冲，首次实现了在有机薄膜上使用c-AFM进行纳米分辨率的高分辨率。此外，可以在不氧化硅界面的情况下在亲水性单层的表面上控制纳米图案。

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