机译:通过等离子体增强化学气相沉积法从C2H2 + SiH4混合物中生长的宽带隙氢化非晶硅碳合金薄膜的热改性
STRUCTURAL-PROPERTIES; SIC-H; SPECTROSCOPY;
机译:通过等离子体增强化学气相沉积法从C2H2 + SiH4混合物中生长的宽带隙氢化非晶硅碳合金薄膜的热改性
机译:等离子体增强化学气相沉积法生长的氢化非晶碳化硅的离子束加工
机译:用于MEMS的氢化非晶碳化硅薄膜的电感耦合等离子体增强化学气相沉积
机译:快速热化学气相沉积生长氢化非晶SiN_x:H薄膜的研究
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:使用等离子增强化学气相沉积法在SiO2上生长的大面积纳米晶石墨膜(NCG)上的数据集
机译:离子轰击能量通量对自由基注入等离子体增强化学气相沉积生长的化学成分对化学成分的影响和氢化非晶碳膜的结构
机译:通过远程等离子体增强化学气相沉积(远程pECVD)生长的非晶硅合金中缺陷产生的基础研究。年度分包合同报告,1990年9月1日 - 1991年8月31日