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缺陷检测装置、缺陷检测方法、晶片、半导体芯片、半导体装置、裸片接合机、接合方法、半导体制造方法、以及半导体装置制造方法

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摘要

检测在具备有浓淡图案的浓淡层和覆盖该浓淡层的浓淡图案的被覆层的工件中的被覆层形成的缺陷。从照明器照射的照明光是至少与从浓淡层反射而入射到摄像装置的光相比从所述被覆层反射或者散射而入射到摄像装置的光的强度大的波长。因此，是降低了浓淡层的浓淡图案的影响的光。

著录项

公开/公告号CN109564172A

专利类型发明专利
公开/公告日2019-04-02

原文格式PDF
申请/专利权人佳能机械株式会社;
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申请/专利号CN201780041948.3
发明设计人田井悠;上林笃正;
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申请日2017-06-29
分类号G01N21/956(20060101);H01L21/301(20060101);H01L21/52(20060101);H01L21/66(20060101);
代理机构11493 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司;
代理人崔永华
地址日本国滋贺县
入库时间 2024-02-19 08:55:43

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-06-11

实质审查的生效 IPC(主分类):G01N21/956 申请日:20170629

实质审查的生效
2019-04-02

公开

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