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等离子体反应器中类金刚石碳的沉积或处理和等离子体反应器

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摘要

一种在腔室中的工件上执行类金刚石碳沉积的方法，包括：将工件支撑在腔室中，其中所述工件面向从腔室的顶板悬吊的上电极；将烃气引入腔室中；以及以第一频率将第一RF功率施加至上电极，其在腔室中产生等离子体且在所述工件上产生类金刚石碳的沉积。施加RF功率产生从上电极朝向工件的电子束以增强烃气的离子化。

1. 等离子体反应器中类金刚石碳的沉积或处理和等离子体反应器 [P] . 中国专利： CN110419091A . 2019-11-05
2. 电感耦合式等离子体(ICP)反应器中的功率沉积控制 [P] . 中国专利： CN107564793B . 2020.05.12
3. Deposition or Treatment of Diamond-Like Carbon in Plasma Reactors and Plasma Reactors [P] . 韩国专利： KR20190124323A . 2019-11-04

机译：在等离子体反应器和等离子体反应器中沉积或处理类金刚石碳
4. PLASMA REACTOR AND DEPOSITION OR TREATMENT OF DIAMOND-LIKE CARBON IN A PLASMA REACTOR [P] . 世界知识产权组织专利： WO2018175182A1 . 2018-09-27

机译：等离子体反应器和等离子体反应器中类金刚石碳的沉积或处理
5. Deposition or treatment of diamond-like carbon in a plasma reactor [P] . 美国专利： US10544505B2 . 2020-01-28

机译：在等离子体反应器中沉积或处理类金刚石碳