公开/公告号CN111367150A
专利类型发明专利
公开/公告日2020-07-03
原文格式PDF
申请/专利权人 福建省晋华集成电路有限公司;
申请/专利号CN202010312423.2
申请日2020-04-20
分类号
代理机构北京聿宏知识产权代理有限公司;
代理人吴大建
地址 362200 福建省泉州市晋江市集成电路科学园联华大道88号
入库时间 2023-12-17 10:08:05
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-07-28
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/20 申请日:20200420
实质审查的生效
2020-07-03
公开
公开
机译: 对于照明光学设备-微光刻投影曝光系统,具有这种透镜系统的照明系统,-具有这种照明系统的微光刻投影曝光设备,用于制造组件的鱼光刻方法以及该工艺组件
机译: 对于照明光学设备-微光刻投影曝光系统,具有这种透镜系统的照明系统,-具有这种照明系统的微光刻投影曝光设备,用于制造组件的鱼光刻方法以及该工艺组件
机译: 用于微光刻的光学系统用于微光刻的投影照明系统,用于生产例如LCD具有两个光学组件,其中长度测量部分直接在光学组件之间运行