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一种基于椭偏仪的原位薄膜性质参数实时表征方法

摘要

本发明公开了一种基于椭偏仪的原位薄膜性质参数实时表征方法。本发明的技术方案为:在薄膜生长过程中,实时测量同一性质参数有较大差别薄膜样品的椭偏参数ψ和Δ;通过拟合椭偏参数,获取上述薄膜样品的介电函数图谱;采用插值方法,建立以该性质参数为变量的光学常数函数库;用该光学常数函数库描述待测薄膜的光学性质,构建适于薄膜生长过程监测的在线椭偏拟合模型;使用在线椭偏拟合模型对薄膜生长过程中的椭偏参数进行实时拟合,从而获得生长过程中薄膜性质参数的实时表征与评价。本发明的优点在于为薄膜生长过程中纵向集成结构设计、性能参数实时表征和评价等问题提供解决方案,为复杂异质结制备技术的发展提供新思路。

著录项

  • 公开/公告号CN113483677A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院上海技术物理研究所;

    申请/专利号CN202110674841.0

  • 发明设计人 杨辽;沈川;陈路;何力;

    申请日2021-06-18

  • 分类号G01B11/06(20060101);G01B11/30(20060101);G01N21/21(20060101);G01M11/02(20060101);

  • 代理机构31311 上海沪慧律师事务所;

  • 代理人郭英

  • 地址 200083 上海市虹口区玉田路500号

  • 入库时间 2023-06-19 12:49:58

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2023-03-10

    发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):G01B11/06 专利申请号:2021106748410 申请公布日:20211008

    发明专利申请公布后的视为撤回

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