公开/公告号CN113698329A
专利类型发明专利
公开/公告日2021-11-26
原文格式PDF
申请/专利权人 上海芯刻微材料技术有限责任公司;
申请/专利号CN202110979288.1
申请日2021-08-25
分类号C07C381/12(20060101);C07C309/12(20060101);C07C227/18(20060101);C07C229/50(20060101);C07C303/32(20060101);C07C67/08(20060101);C07C69/753(20060101);C07C229/46(20060101);C07C69/608(20060101);G03F7/004(20060101);
代理机构31283 上海弼兴律师事务所;
代理人王卫彬;陈卓
地址 201616 上海市松江区思贤路3600号11号楼东侧
入库时间 2023-06-19 13:24:42
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-07-04
授权
发明专利权授予
机译: 用于浸没式光刻的光致抗蚀剂材料包括能被酸溶解为碱溶液的聚合物,能分解酸的光致产酸剂以及能够中和酸并降低迁移率的淬灭剂
机译: 面漆,可用水剥离,可用水浇铸,用于193nm浸没式光刻
机译: 用于浸没式光刻系统的清洁溶液以及使用该清洁剂的浸没式光刻工艺