离子束

摘要： 超光滑的表面对高性能光学系统的性能至关重要,为了可以实现离子束抛光对元件表面超光滑的制造,离子束抛光(ion beam figuring,IBF)引起的元件表面形貌光滑化和粗糙化在很大程度上取决于加工条件。通常不正确的离子束抛光方法会导致光学表面的粗糙度增加,选择合适的加工方法可以减小表面的粗糙度,实现表面的超光滑。结果表明:基于高精度的离子束抛光技术,为了改善熔石英表面粗糙度,采用了0°~45°之间不同入射角度的离子束倾斜抛光进行研究,小角度(0°~30°)倾斜入射抛光可以较好地改善表面粗糙度,实现了离子束倾斜超光滑表面的生成,而在大入射角时观察到纳米级波纹图案,粗糙度值显著增大,不利于生成超光滑的表面。

摘要： 【美国北极星医用放射性同位素公司网站2021年3月8日报道】2021年3月8日,美国北极星医用放射性同位素公司(NorthStar)和比利时离子束应用公司(IBA)宣布扩大合作,目标是增加医用放射性同位素锝-99m的供应。前者是医用同位素和放射性药物的研发和生产商,后者是质子治疗癌症解决方案和电子束加速器的供应商。这项合作将帮助美国以外的公司使用离子束应用公司的电子束加速器建设基于北极星专有技术的钼-99生产厂。

摘要： 目的:探讨醋酸曲安奈德联合氟尿嘧啶通过闪耀离子束透皮给药治疗颜面部术后早期瘢痕的临床疗效.方法:选择笔者医院2017年1月-2018年12月收治的80例颜面部色素痣切除术后患者为研究对象.随机分为A、B两组.A组:予以外用硅酮凝胶治疗干预;B组:醋酸曲安奈德联合氟尿嘧啶通过闪耀离子束透皮给药治疗后,再进行外用硅酮凝胶治疗干预.并对比治疗前及治疗后1周、2周、1个月、3个月后两组患者的治疗效果.结果:B组患者瘢痕治疗有效率明显高于A组,其差异具有统计学意义(P<0.05).A组个别患者瘢痕增生明显.用药期间,B组患者满意度较高,两组患者均未出现过敏反应.结论:醋酸曲安奈德联合氟尿嘧啶通过闪耀离子束透皮给药治疗有利于术后瘢痕恢复,可以减少瘢痕增生的概率.闪耀离子束透皮给药技术不仅使患者接受治疗期间有较好的治疗感受,同时具有安全、易操作及疗效佳等特点,值得临床推广.

摘要： 离子束放疗技术是当今肿瘤学领域最先进的放射治疗技术。离子束因其具有良好的物理剂量分布和生物学特性,在减少正常组织放射毒性和增加肿瘤局部控制率方面具有潜在的巨大优势。当前国际范围内,离子治疗中心的数量在呈指数型增长,但因较高的治疗费用并且相对于传统X射线放疗缺乏足够的临床优势证据,这项技术仍存在争议。本文将讨论这项技术在物理和生物上的优势和挑战,期望能够展现离子束放疗技术在医学上的潜能。

摘要： 用水平集方法建立了碲镉汞的离子束刻蚀轮廓的数值模型,模型的输入参数包括掩膜厚度、掩膜侧壁倾角、掩膜沟槽宽度、离子束散角、刻蚀速度等参数.对碲镉汞的刻蚀轮廓和刻蚀速度减缓现象进行了模拟和实验验证,结果表明,在沟槽宽度为4～10 μm的范围内,计算得到的刻蚀深度和SEM测量结果相差6～20％.对掩膜的轮廓演变进行了模拟,给出了一个优化设计掩膜厚度来提高深宽比的实例.

摘要： 目的:研究离子束联合强脉冲光综合美容措施对面部烧伤瘢痕的修复效果,为患者的瘢痕修复提供临床指导.方法:回顾性分析2015年10月-2018年10月笔者医院治疗的80例面部烧伤瘢痕患者的诊疗情况.按照瘢痕处理方式的不同,将其随机分为观察组(n=40)和对照组(n=40).对照组采取常规措施进行面部烧伤瘢痕治疗,涂抹抗瘢痕药物进行治疗;观察组在常规措施治疗的基础上应用离子束联合强脉冲光的综合美容措施进行治疗.对两组患者的修复效果进行比较分析,并采用温哥华瘢痕量表(Vancouver scar scale,VSS)对患者的瘢痕情况进行评定.结果:治疗后对照组VSS评分显著高于观察组,差异具有统计学意义(P<0.05).观察组患者的色素沉着、瘢痕增生和萎缩发生率以及红斑的持续时间均低于对照组,差异均有统计学意义(P<0.05).观察组患者满意度为90.00％明显高于对照组的70.00％,差异具有统计学意义(P<0.05).结论:离子束联合强脉冲光综合美容措施治疗对面部烧伤瘢痕进行修复,可明显降低瘢痕增生和萎缩、色素沉着的发生率,提高治疗效果,值得在临床应用.

摘要： 目的：评价离子束治疗面部痤疮凹陷性瘢痕的临床疗效.方法：采用离子束对76例面部痤疮凹陷性瘢痕患者,根据痤疮凹陷性瘢痕的形态及严重程度,选择滚轮模式、定点模式或滚轮联合定点模式治疗.滚轮模式功率为45～70W,2～4遍;定点模式功率为50～70W,曝光0.2～0.6s,1遍.每次治疗间隔4～6周,共治疗3、4次.并根据疗效评定标准进行分析和评价治疗效果.结果：本组共76例患者,治疗后随访1年,其中9例痤疮瘢痕基本治愈,64例获得明显改善,2例增生性瘢痕治疗效果欠佳,1例导致局部瘢痕增生,总有效率为96.05％.结论：离子束能安全有效地治疗痤疮凹陷性瘢痕,值得临床推广应用.

摘要： 离轴反射式光学系统的核心之一是离轴非球面光学零件.本项目针对大口径离轴非球面主要制造特征和由此产生的加工与检测方面的关键科学问题,开展了离轴非球面磁流变和离子束复合短流程光学加工关键工艺与技术研究.研究内容主要包括:基于特征量约束条件下的光学表面误差高效收敛控制;离轴非球面加工与检测定位一致性与工件位姿优化;离轴非球面加工面形精度检测与评价方法;离轴非球面高效磁流变、离子束复合短流程加工工艺等研究。项目突破了加工工艺和测量的关键技术，建立了大口径离轴非球面高效高精短流程工艺。在470mm口径离轴非球面进行了工艺验证，有效口径面形精度达到0.022RMS，为我国相关技术发展提供支持。

摘要： 中子管具有较强的民用及军用价值.结合脉冲中子管的结构特征,建立了一套基于闪烁屏-CCD相机的中子管氘离子束束流截面测量系统.利用有限元分析软件,模拟计算了在中子管束流参数下,闪烁屏表面的热效应.利用闪烁屏-CCD系统,测量得到了中子管氘离子束在靶面处的典型的强度分布.

摘要： 以电推进器离子束中和过程和近场羽流为研究对象,建立了全粒子的二维轴对称粒子单元法(particle-in-cell,PIC)算法.模拟结果显示在靠近出口处会形成一个较高的电势,在随后的过程中此正电势会一直保持增加的趋势,且该等势面会随着等离子体束向前推进而推进,最终形成的电势分布会在推力器周围捕获大量离子.出口处的高电势与真空环境之间形成的势井会限制温度较高的电子并加速离子最终使二者的速度趋于一致并完成离子—电子的耦合过程即离子束的中和.同时模拟结果显示此中和过程中电子和离子的温度并不保持恒定.结果对离子束中和以及近场羽流的物理机理的研究具有参考意义.

摘要： 在中子发生器上,利用不同能量的D+离子束对氘钛靶进行连续辐照,利用慢正电子湮没技术和扫描电镜对束流辐照前后的氘钛靶的微观性能进行表征,结果表明,D+离子束对氘钛靶微观缺陷产生了影响,随离子束能量增大,微观缺陷的改变程度增加；D+离子束对氘钛靶微观形貌产生不同程度的烧熔,随离子束能量增大,氘钛靶微观形貌的烧熔程度增加,表面几何不均匀性导致氘钛靶表面出现选择性烧熔.基于离子与固体相互作用的理论,数值模拟D+离子束致氘钛靶的微观缺陷变化规律和D+离子束在氘钛靶能量损失规律,微观缺陷变化规律与实验测量在变化趋势上相一致,能量损失规律与实验观测结果相吻合.

摘要： 碳沉积效应普遍存在于核物理实验中,对低能核反应实验有很大影响.本工作在反应靶前后加不同电压,利用12C柬流持续轰击13C靶,研究了12C有效厚度的变化.测量结果表明,碳沉积量与束流轰击时间呈正比.本文分析了碳沉积的成因,研究了降低碳沉积效应的有效实验方法,可为相关实验提供参考.

摘要： 核反应堆材料中氦的滞留量是评估材料安全性能的重要指标。本文给出了用离子束来弹性反冲探测氦的能谱、分析薄膜材料中的氦元素含量及其深度分布的基本原理和实验方法。采用12兆电子伏特的碳离子作为探针进行前向弹性反冲出金属锆膜中的氦，通过解析能谱，获得氦的含量和深度分布；同时，针对不同温度退火后的薄膜材料中氦含量进行了对比分析。

摘要： 小丸内靶就是将氦以外的某种气体通过低温冷却而形成的固体微球，经过一定的加速和准直，部分固体微球准确到达储存环。小丸内靶靶束与储存环离子束在反应室正交并发生相互作用，其反应事例被反应室周围环绕的探测器单元探测到并被记录下来。本文论述了兰州CSRm内靶终端的作用，并简要回顾了小丸内靶技术的发展历程。

摘要： 利用能量为3 MeV的Ar12+离子辐照金属玻璃Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64和金属W,研究了金属玻璃的Ar离子辐照损伤,辐照剂量分别为1×1014,1×1015和1×1016 ions/cm2.XRD分析发现在不同剂量辐照下Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64均保持非晶为主要结构.不同剂量辐照后的金属玻璃样品表面没有明显的辐照损伤,而金属W在剂量为1×016 ions/cm2时表面出现大面积不规则的裂纹和孔洞.AFM分析显示Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64的表面均方根粗糙度随辐照剂量的增大而增大;辐照后金属玻璃的表面硬度略有降低,而金属W的硬度有所升高.在低于金属玻璃的玻璃化转变温度时,金属玻璃Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64的耐Ar12+溅射能力好于金属W.

摘要： 利用能量为3 MeV的Ar12+离子辐照金属玻璃Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64和金属W,研究了金属玻璃的Ar离子辐照损伤,辐照剂量分别为1×1014,1×1015和1×1016 ions/cm2.XRD分析发现在不同剂量辐照下Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64均保持非晶为主要结构.不同剂量辐照后的金属玻璃样品表面没有明显的辐照损伤,而金属W在剂量为1×016 ions/cm2时表面出现大面积不规则的裂纹和孔洞.AFM分析显示Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64的表面均方根粗糙度随辐照剂量的增大而增大;辐照后金属玻璃的表面硬度略有降低,而金属W的硬度有所升高.在低于金属玻璃的玻璃化转变温度时,金属玻璃Al7.5Cu17.8Ni10.7Zr64的耐Ar12+溅射能力好于金属W.

摘要： 本发明涉及半导体制造设备，其公开了一种用于离子束系统的间热式宽带束离子源，包括弧室、双间接加热式阴极、多通道气体入口装置、窗框型源磁铁、限制源磁铁下游的磁场分布范围的磁屏蔽装置、放置在所述弧室内部的内部电极以及给所述弧室、双间接加热式阴极、窗框源磁铁和放置在所述弧室内部的内部电极供电的电源。本发明的有益效果是：通过采用双间热式阴极，具有可调节局部磁场的源磁铁，具有可调节的多个电极，从而进一步达到调接弧室内的等离子体密度分布的目的。

摘要： 本发明提供一种离子束扫描器、离子布植机及控制点离子束的方法。离子束扫描器包含第一扫描平台，具有第一开口以传送离子束，第一扫描平台对应于第一振荡偏转信号以在第一开口内产生第一振荡偏转场；第二扫描平台，设置于第一扫描平台下游、并具有第二开口以传送离子束，第二扫描平台对应第二振荡偏转信号以在第二开口内产生方向与第一振荡偏转场相反的第二振荡偏转场；以及扫描控制器，当经扫描离子束离开定义共同聚焦点的第二扫描平台时，使第一振荡偏转信号和第二振荡偏转信号同步以产生多个离子轨迹。本申请技术方案能更容易地在带状束和点束模式中去操作束线离子布植机，且在切换操作模式时不需要大规模的重新配置。

摘要： 本发明提供一种为离子植入建立中电流带状离子束的方法，其系提供一包含有工作气体及运载气体的离子源，并藉由调整工作气体及运载气体的比例，以控制离子源中一工作离子束的强度，之后并利用质量分析仪将运载气体自工作离子束分离。亦可藉由于离子源下游设置一或多个机械式电流限制装置来控制工作离子束的强度。此方法可控制到达晶圆的带状离子束总强度约在3μA到3mA之间。

摘要： 离子束检查装置、离子束检查方法、半导体制造装置以及离子源装置。源头的中心轴和引出电极排在一条直线上，并通过激光束确定该直线和离子束轴是否同轴。因此，将离子束轴上的发射激光束的光发射单元装配到外壳以代替源头，并将反射激光束的反射镜装配到引出电极。光发射装置还具有检测激光束的功能以检测由反射镜反射的激光束，并将该检测的激光束的强度发送到控制单元。调节引出电极的位置以便使激光束的强度变为最大，由此离子束轴可以和离子源及引出电极的中心轴相重合。

摘要： 一种离子布植机的一分析器模组包括与一解析开口相邻的离子束偏转装置，其中一离子束的一末端离子束部分自离子束偏转装置发出。回应于一第一操作条件中的实质上零伏特的一第一值的一离子束偏转电压，离子束偏转装置将离子束的一来源离子束部分导向解析开口以产生末端离子束部分。当离子束偏转电压具有一在一第二操作条件中的高的第二值时，离子束偏转装置将来源离子束部分的种类导离解析开口，以使得末端离子束部分实质上是熄灭的。在第二操作条件过程中操作离子束控制电路以借由自第二值快速地切换离子束偏转电压为第一值而转变离子布植机为第一操作条件。一种布植方法，使用布植机的特点以在布植过程中自跳动回复且借此改良所布植的晶圆的良率。

摘要： 提供了用于产生基于能级而在空间上分开并被调制的激光加速高能多能正离子束的设备和方法。所述空间上分开并被调制的高能多能正离子束用于放射治疗。另外，提供了使用由在空间上分开并被调制过的正离子束所提供的适合治疗的高能多能正离子束来用于治疗放射治疗中心内的患者的方法。还提供了使用在空间上分开并被调制过的激光加速高能多能正离子束来制造放射性同位素的方法。

摘要： 本发明公开了一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安装方便，可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正光学镜面中高频误差。

摘要： 本发明涉及半导体制造设备，其公开了一种用于离子束系统的间热式宽带束离子源，包括弧室、双间接加热式阴极、多通道气体入口装置、窗框型源磁铁、限制源磁铁下游的的磁场分布范围的磁屏蔽装置、放置在所述弧室内部的内部电极以及给所述弧室、双间接加热式阴极、窗框源磁铁和放置在所述弧室内部的内部电极供电的电源。本发明的有益效果是：通过采用双间热式阴极，具有可调节局部磁场的源磁铁，具有可调节的多个电极，从而进一步达到调接弧室内的等离子体密度分布的目的。

摘要： 本文提供用于改善离子撷取系统的离子束撷取稳定度及离子束流的方式。在一种方式中，一种源壳体组件可包括源壳体，所述源壳体环绕包括弧室的离子源，所述源壳体具有安装于其近端处的撷取孔板。所述源壳体组件还包括真空衬垫，所述真空衬垫安置于所述源壳体的内部内以在一组真空抽吸孔周围形成屏障。在构成后，所述源壳体组件中的除撷取孔板中的开口以外的开口被撷取孔板及真空衬垫封闭，进而确保在弧室外形成的附属弧或无关离子保持于源壳体内。只有在弧室内形成的那些离子经由撷取孔板的开口而离开源壳体。

摘要： 本发明提供一种为离子植入建立中电流带状离子束的方法，其系提供一包含有工作气体及运载气体的离子源，并藉由调整工作气体及运载气体的比例，以控制离子源中一工作离子束的强度，之后并利用质量分析仪将运载气体自工作离子束分离。亦可藉由于离子源下游设置一或多个机械式电流限制装置来控制工作离子束的强度。此方法可控制到达晶圆的带状离子束总强度约在3μA到3mA之间。