机译:用于193 nm平版印刷的新型低反射指数含氟聚合物基顶部抗反射涂层(TARC)
机译:使用带有新开发的偏振光学元件的掩模对193 nm光刻设备进行偏振诊断
机译:计算光刻:耗尽193 nm投影光刻系统的分辨率极限
机译:评估193-nm光刻的光学涂层
机译:光学设备和涂层的干涉光刻。
机译:通过全晶圆和卷对卷分步闪光纳米压印光刻技术生产的塑料基板单层宽带抗反射涂层
机译:新型低反光指数含氟聚合物的顶部抗反射涂层(TARC)为193-nm光刻
机译:用于光学器件和涂层的干涉光刻