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首页> 外文会议>Optical Microlithography XI >Printing sub-100-nm random logic patterns using binary masks and synthetic-aperture lithography (SAL)
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Printing sub-100-nm random logic patterns using binary masks and synthetic-aperture lithography (SAL)

机译：使用二进制掩模和合成孔径光刻（SAL）打印100 nm以下的随机逻辑图案

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Abstract: Synthetic-aperture lithography (SAL) is proposed as a means for reaching design-rules of 0.1 micrometer and below. By a combination of oblique illumination and pupil filtering the relation between high and low spatial frequencies in the image is altered. Simulations indicate that random-logic patterns can be printed at k$-1$/ equals 0.40 with only modest OPC. With some design constraints and/or a corrective auxiliary exposure k$-1$/ equals 0.32 is possible. The main disadvantages are a complex stepper design and low light transmission, the advantages are the use of standard binary masks and good useful resolution. !5
机译：摘要：提出了合成孔径光刻（SAL）作为达到0.1微米及以下设计规则的一种方法。通过倾斜照明和光瞳滤波的组合，可以改变图像中高空间频率和低空间频率之间的关系。仿真表明，只有适度的OPC才能以k $ -1 $ /等于0.40的速度打印随机逻辑图案。由于某些设计约束和/或校正辅助曝光，k $ -1 $ /等于0.32是可能的。主要缺点是复杂的步进器设计和低透光率，优点是使用标准的二进制掩模和良好的可用分辨率。 ！5

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