机译:FTIR光谱和EELS映射研究退火的LaFeOxNy薄膜中的氮再分布
Univ Lorraine, IJL, CNRS, UMR 7198, Parc Saurupt, F-54011 Nancy, France|UNamur, LISE, Dept Phys, 61 Rue Bruxelles, B-5000 Namur, Belgium;
Univ Lorraine, IJL, CNRS, UMR 7198, Parc Saurupt, F-54011 Nancy, France;
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HZDR, Ion Beam Ctr, Bautzner Landstr 400, D-01328 Dresden, Germany;
Univ Lorraine, IJL, CNRS, UMR 7198, Parc Saurupt, F-54011 Nancy, France;
Oxynitride perovskite; Thermal stability; EELS mapping; FTIR;
机译:FTIR光谱研究气相沉积偶氮聚酰亚胺薄膜的固态酰亚胺化反应
机译:胺处理的聚酯薄膜的FTIR-ATR光谱结构研究
机译:掺杂浓度和退火温度对氮掺杂ZnO薄膜的影响:光谱学研究
机译:构成氮原子的间隙距离对光反射光谱研究稀GaAsn薄膜局部电子状态的影响
机译:氢在PECVD沉积的氮化硅薄膜中的重新分布。
机译:太阳能电池用Cu2MgxZn1-xSnS4薄膜的最佳Mg掺杂量和退火参数研究
机译:组成氮原子的原子间距离对光反射光谱法研究的稀GaAsN薄膜中局部电子态的影响
机译:在300 K和100 K下的TlBaCaCuO(sub X)薄膜的aEs(俄歇电子能谱)和EELs(电子能量损失光谱)分析