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A New Approach to Structural Study of Underpotential Deposition of Adatoms on the Electrode Surface, Platinum (111)

机译：电极表面铂（111）上负原子沉积的结构研究的新方法

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An in-situ x-ray diffraction study using surface differential diffraction (SDD) was carried out to investigate the structural arrangement of Cu adatoms on Pt (111) in the underpotential region. A potential dynamic mode of deposition was used and the adlayer spacing of the adsorbate atoms determined as a function of potential. The studies showed that the adlayer spacing points to an initial open structure with Cu atoms sitting on the 3-fold hollow sites. The unoccupied 3-fold hollow sites are filled on completion of a monolayer.%Une étude in-situ de diffraction des rayons X par utilisation de la diffraction différentielle superficielle (DDS) a été effectuée pour évaluer l'agencement structural des atomes dégagés du Cu sur le Pt (111) dans une région sous- potentille. Un mode dynamique du potentiel de dépôt a été employé et l'espacement des couches atomiques de l'adsorbant a été déterminé comme une fonction du potentiel. Les essais ont prouvé que l'espacement de la couche se dirige vers une premi╚╮e structure ouverte avec des atomes de Cu qui se déposent sur les 3 trois espaces vides. Les espaces vides de la troisième couche se remplissent après la saturation de la couche simple.
机译：进行了使用表面微分衍射（SDD）的原位X射线衍射研究，以研究低电位区域中Pt（111）上Cu原子的结构排列。使用电势沉积动态模式，并确定吸附物原子的吸附层间距与电势的关系。研究表明，添加层间距指向初始的开放结构，其中Cu原子位于3倍的空心位置。在完成单层填充后，将空置的3倍空心位置填充。％使用微分表面衍射（DDS）进行了原位X射线衍射研究，以评估从铜释放的原子的结构排列在亚电位区的铂（111）上。使用沉积电势的动态模式，并根据电势确定吸附剂原子层的间距。测试表明，该层的间隔朝向具有Cu原子的第一开放结构，该Cu原子沉积在这三个三个空的空间上。单层饱和后，将填充第三层中的空隙。

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