掌桥科研
一站式科研服务平台
科技查新
收录引用
专题文献检索
外文数据库(机构版)
更多产品
首页
成为会员
我要充值
退出
我的积分:
中文会员
开通
中文文献批量获取
外文会员
开通
外文文献批量获取
我的订单
会员中心
我的包量
我的余额
登录/注册
文献导航
中文期刊
>
中文会议
>
中文学位
>
中国专利
>
外文期刊
>
外文会议
>
外文学位
>
外国专利
>
外文OA文献
>
外文科技报告
>
中文图书
>
外文图书
>
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
工业技术
基础科学
医药卫生
农业科学
教科文艺
经济财政
社会科学
哲学政法
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
自然科学总论
数学、物理、化学、力学
天文学、地球科学
生物科技
医学、药学、卫生
航空航天、军事
农林牧渔
机械、仪表工业
化工、能源
冶金矿业
电子学、通信
计算机、自动化
土木、建筑、水利
交通运输
轻工业技术
材料科学
电工技术
一般工业技术
环境科学、安全科学
图书馆学、情报学
社会科学
其他
美国国防部AD报告
美国能源部DE报告
美国航空航天局NASA报告
美国商务部PB报告
外军国防科技报告
美国国防部
美国参联会主席指示
美国海军
美国空军
美国陆军
美国海军陆战队
美国国防技术信息中心(DTIC)
美军标
美国航空航天局(NASA)
战略与国际研究中心
美国国土安全数字图书馆
美国科学研究出版社
兰德公司
美国政府问责局
香港科技大学图书馆
美国海军研究生院图书馆
OALIB数据库
在线学术档案数据库
数字空间系统
剑桥大学机构知识库
欧洲核子研究中心机构库
美国密西根大学论文库
美国政府出版局(GPO)
加利福尼亚大学数字图书馆
美国国家学术出版社
美国国防大学出版社
美国能源部文献库
美国国防高级研究计划局
美国陆军协会
美国陆军研究实验室
英国空军
美国国家科学基金会
美国战略与国际研究中心-导弹威胁网
美国科学与国际安全研究所
法国国际关系战略研究院
法国国际关系研究所
国际宇航联合会
美国防务日报
国会研究处
美国海运司令部
北约
盟军快速反应部队
北约浅水行动卓越中心
北约盟军地面部队司令部
北约通信信息局
北约稳定政策卓越中心
美国国会研究服务处
美国国防预算办公室
美国陆军技术手册
一般OA
科技期刊论文
科技会议论文
图书
科技报告
科技专著
标准
其它
美国卫生研究院文献
分子生物学
神经科学
药学
外科
临床神经病学
肿瘤学
细胞生物学
遗传学
公共卫生&环境&职业病
应用微生物学
全科医学
免疫学
动物学
精神病学
兽医学
心血管
放射&核医学&医学影像学
儿科
医学进展
微生物学
护理学
生物学
牙科&口腔外科
毒理学
生理学
医院管理
妇产科学
病理学
生化技术
胃肠&肝脏病学
运动科学
心理学
营养学
血液学
泌尿科学&肾病学
生物医学工程
感染病
生物物理学
矫形
外周血管病
药物化学
皮肤病学
康复学
眼科学
行为科学
呼吸学
进化生物学
老年医学
耳鼻喉科学
发育生物学
寄生虫学
病毒学
医学实验室检查技术
生殖生物学
风湿病学
麻醉学
危重病护理
生物材料
移植
医学情报
其他学科
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
人类生活必需品
作业;运输
化学;冶金
纺织;造纸
固定建筑物
机械工程;照明;加热;武器;爆破
物理
电学
马克思主义、列宁主义、毛泽东思想、邓小平理论
哲学、宗教
社会科学总论
政治、法律
军事
经济
文化、科学、教育、体育
语言、文字
文学
艺术
历史、地理
自然科学总论
数理科学和化学
天文学、地球科学
生物科学
医药、卫生
农业科学
工业技术
交通运输
航空、航天
环境科学、安全科学
综合性图书
主题
主题
题名
作者
关键词
摘要
高级搜索 >
外文期刊
外文会议
外文学位
外国专利
外文图书
外文OA文献
中文期刊
中文会议
中文学位
中国专利
中文图书
外文科技报告
清除
历史搜索
清空历史
首页
>
外文会议
>
电子学、通信
>
International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC
International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC
召开年:
召开地:
出版时间:
-
会议文集:
-
会议论文
热门论文
全部论文
相关中文期刊
现代音响技术
飞通光电子技术
电力电子
中国信息界-e制造
影视制作
通信与信息技术
火控雷达技术
雷达科学与技术
舰船电子对抗
电子质量
更多>>
相关外文期刊
RCJ会報
On the New World of Communication
Elektronik
Telecommunications
Television
Telecom Markets
Middle East Communications
International journal of advanced media and communication
Space Communications
Journal of Cryptology
更多>>
相关中文会议
中国电影电视技术学会节目制作与传输专业委员会第25届(2013西藏)年会
四川省电子学会曙光分会第十七届学术年会暨中物院第十届电子技术青年学术交流会
2008中国(第三届北京)国际RFID技术高峰论坛
第九届全国微波磁学会议
全国因特网与音视频广播发展研讨会
2010国际传输与覆盖研讨会
第六届中国通信光电线缆产业峰会
中国电子学会信息论分会2009年研究生学术交流会
2012中国数字广播电视与网络发展年会、第20届全国有线电视综合信息网学术研讨会(CCNS2012)、第11届全国互联网与音视频广播发展研讨会(NWC2012)
第五届全国夜视技术交流会暨2005年全国瞬态光学与光电子技术交流会
更多>>
相关外文会议
Solid State Laser Technologies and Femtosecond Phenomena
Conference on Optical Design and Engineering; Sep 30-Oct 3, 2003; St.Etienne, France
Damping and Isolation
2015 International Conference on Optical Instruments and Technology: Advanced Lasers and Applications
Liquid Crystal Materials, Devices, and Applications XI
Terahertz Physics, Devices, and Systems IX: Advanced Applications in Industry and Defense
Coherent optical communication: components, subsystems, and systems
Conference on Optoelectronic and Electronic Sensors Ⅳ Jun 13-16, 2000, Gliwice, Poland
International Conference on Imaging Science, Systems, and Technology CISST'2001 Vol.1, Jun 25-28, 2001, Las Vegas, Nevada, USA
Physics and technology of high-k materials 8
更多>>
热门会议
Meeting of the internet engineering task force;IETF
日本建築学会;日本建築学会大会
日本建築学会(Architectural Institute of Japan);日本建築学会年度大会
日本建築学会学術講演会;日本建築学会
日本建築学会2010年度大会(北陸)
Korean Society of Noise & Vibration Control;Institute of Noise Control Engineering;International congress and exposition on noise control engineering;ASME Noise Control & Acoustics Division
土木学会;土木学会全国大会年次学術講演会
応用物理学会秋季学術講演会;応用物理学会
総合大会;電子情報通信学会
The 4th International Conference on Wireless Communications, Networking and Mobile Computing(第四届IEEE无线通信、网络技术及移动计算国际会议)论文集
更多>>
最新会议
2011 IEEE Cool Chips XIV
International workshop on Java technologies for real-time and embedded systems
Supercomputing '88. [Vol.1]. Proceedings.
RILEM Proceedings PRO 40; International RILEM Conference on the Use of Recycled Materials in Buildings and Structures vol.1; 20041108-11; Barcelona(ES)
International Workshop on Hybrid Metaheuristics(HM 2007); 20071008-09; Dortmund(DE)
The 57th ARFTG(Automatic RF Techniques Group) Conference, May 25, 2001, Phoenix, AZ
Real Time Systems Symposium, 1989., Proceedings.
Conference on Chemical and Biological Sensing V; 20040412-20040413; Orlando,FL; US
American Filtration and Separations Society conference
Combined structures congress;North American steel construction conference;NASCC
更多>>
全选(
0
)
清除
导出
1.
ULTRATHIN HIGH-K DIELECTRICS GROWN BY ATOMIC LAYER DEPOSITION: A COMPARATIVE STUDY OF ZrO_2, HfO_2, Y_2O_3 AND A1_2O_3
机译:
原子层沉积生长的超薄高K介质:ZrO_2,HfO_2,Y_2O_3和A1_2O_3的比较研究
作者:
E.P. Gusev
;
E. Cartier
;
M. Copel
;
M. Gribelyuk
;
D.A. Buchanan
;
H. Okorn-Schmidt
;
C. DEmic
;
P. Kozlowski
;
M. Tuominen
;
M. Linnermo
;
S. Haukka
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
2.
HIGH THERMAL STABILITY NI/CO SILICIDE ON SIGE FOR RAISED SOURCE/DRAIN STRUCTURES
机译:
上升源/排泄结构的高热稳定性SI / Si硅化物
作者:
Douglas J. Tweet
;
Jer-shen Maa
;
Sheng Teng Hsu
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
3.
PREPARATION OF SUB 20 A THICK ULTRA-THIN STACK GATE DIELECTRICS BY IN-SITU RTCVD PROCESSES
机译:
原位RTCVD工艺制备20微米以下超厚壁栅介电材料
作者:
Joong S. Jeon
;
Colman Wong
;
Janice Gray
;
Hyeon S. Kim
;
Bob Ogle
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
4.
SOURCE/DRAIN EXTENSION FORMED BY IMPULSE ANNEAL
机译:
脉冲附件形成的源/漏扩展
作者:
M.E.Lefrancois
;
D.M.Camm
;
S.McCoy
;
K.Elliott
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
5.
SINGLE-WAFER THERMAL PROCESSING FOR 300 MM SEMICONDUCTOR MANUFACTURING
机译:
300毫米半导体制造的单晶片热加工
作者:
Y. Ma
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
6.
SPIN-ON-GLASS BAKE AND CURE USING A RESISTIVELY HEATED BATCH ANNEALING OVEN
机译:
使用电阻加热的分批退火炉在玻璃上进行烘烤和固化
作者:
Woo Sik Yoo
;
Takashi Fukada
;
Yasuhide Hiraga
;
Kitaek Kang
;
Jiro Yamamoto
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
7.
SUB-100 NM GATE STACK / ULTRASHALLOW JUNCTION INTEGRATION CHALLENGES
机译:
SUB-100 NM门禁堆栈/超浅结集成挑战
作者:
Howard R. Huff
;
George A. Brown
;
Lawrence A. Larson
;
Robert W. Murto
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
8.
ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION VIA THERMAL DIFFUSION OF BORON INTO HIGH ENERGY ION IRRADIATED SILION
机译:
硼热扩散成高能离子辐照硅的超浅结形成
作者:
L. Shao
;
X. M. Lu
;
X. M. Wang
;
J. R. Liu
;
Wei-Kan Chu
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
9.
THE VERTICAL REPLACEMENT-GATE (VRG) MOSFET: A HIGH-PERFORMANCE VERTICAL MOSFET WITH LITHOGRAPHY-INDEPENDENT CRITICAL DIMENSIONS
机译:
垂直替换门(VRG)MOSFET:具有光刻独立关键尺寸的高性能垂直MOSFET
作者:
J.M. Hergenrother
;
Sang-Hyun Oh
;
T. Nigam
;
Don Monroe
;
F.P. Klemens
;
A. Kornblit
;
F.H. Baumann
;
J.L. Grazul
;
R.W. Johnson
;
C.A. King
;
R.N. Kleiman
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
10.
AN ANNEALING STUDY OF La_2O_3-SiO_2 AND ZrO_2-SiO_2 GATE DIELECTRICS
机译:
La_2O_3-SiO_2和ZrO_2-SiO_2栅介质的退火研究。
作者:
Angus I Kingon
;
Jon-Paul Maria
;
D Wicaksana
;
J Parrette
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
11.
AN RTP CHAMBER MODEL FOR APPARENT EMITTANCE
机译:
用于表观辐射的RTP腔模型
作者:
B.E. Adams
;
A. Hunter
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
12.
Characteristics of Ultra Thin (EOT<10A) RTCVD Zr Silicate (Zr_(27)Si_(10)O_(63)) Gate Dielectrics
机译:
超薄(EOT <10A)RTCVD硅酸锆(Zr_(27)Si_(10)O_(63))栅介质的特性
作者:
C. H. Lee
;
H. F. Luan
;
W. P. Bai
;
S. J. Lee
;
T.S. Jeon
;
Y. Senzaki
;
D. Roberts
;
D. L. Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
13.
CONCEPT OF ELECTRICALLY SWITCHABLE REFLECTOR FILMS ON THE CHAMBER WALLS OF RTP REACTORS
机译:
RTP反应器室壁上的电气可切换反射膜的概念
作者:
F. Roozeboom
;
P. van der Sluis
;
N.E.B. Cowern
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
14.
COMPARISON OF INTERFACE PROPERTIES OF DRY AND WET OXIDES GROWN IN DIFFERENT AMBIENTS
机译:
不同环境下生长的干湿氧化物界面性质的比较
作者:
R. Sharangpani
;
S.-P. Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
15.
DEVICE FABRICATION AND EVALUATION OF ALTERNATIVE HIGH-K DIELECTRICS AND GATE ELECTRODES USING A NON-SELF ALIGNED GATE PROCESS
机译:
使用非自对准栅极工艺的高K介电常数和栅极电极的器件制造和评估
作者:
I.Kim
;
S.K. Han
;
W. Kiether
;
S.J. Lee
;
C.H. Lee
;
H.F. Luan
;
Z. Luo
;
E. Rying
;
Z. Wang
;
D. Wicaksana
;
W. Zhu
;
J. Hauser
;
A. Kingon
;
D. L. Kwong
;
T.P.Ma
;
J.P. Maria
;
V. Misra
;
C.M. Osburn
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
16.
FUNDAMENTAL ISSUES IN RAPID THERMAL ANNEALING (RTA), SPIKE RTA AND EXCIMER LASER ANNEALING (ELA) FOR THE FORMATION OF SHALLOW P+/N JUNCTIONS
机译:
快速热退火(RTA),尖峰RTA和准分子激光退火(ELA)形成浅P + / N结的基本问题
作者:
Y. F. Chong
;
K. L. Pey
;
A. T. S. Wee
;
A. See
;
C. H. Tung
;
R. Gopalakrishnan
;
Y. F. Lu
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
17.
HOT-WALL RTP FOR THIN GATE OXIDE AND SILICON NITRIDE
机译:
薄栅氧化硅和氮化硅的热壁RTP
作者:
Y. Senzaki
;
J. Sisson
;
R. Herring
;
J. Yao
;
D. Teasdale
;
J. Ricketts
;
D. Dostal
;
C. Barelli
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
18.
IMPLANT AND ANNEAL METHODS FOR PMOS GATES
机译:
PMOS门的植入和退火方法
作者:
A. T. Fiory
;
K. K. Bourdelle
;
Y. Chen
;
Y. Ma
;
J.M. McKinley
;
P. K. Roy
;
H.W. Koh
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
19.
HIGH PERFORMANCE SOI CMOS TECHNOLOGY: FEOL PROCESS, DEVICE, AND MATERIAL INTERACTIONS
机译:
高性能SOI CMOS技术:加工过程,设备和材料相互作用
作者:
Michael Mendicino
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
20.
HIGH-K GATE DIELECTRICS: HfO_2, ZrO_2, AND THEIR SILICATES
机译:
高K门介电体:HfO_2,ZrO_2及其硅化物
作者:
R. Nieh
;
K. Onishi
;
R. Choi
;
E. Dharmarajan
;
S. Gopalan
;
C.S. Kang
;
J.C. Lee
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
21.
NON-DESTRUCTIVE POST-ANNEAL CHARACTERIZATION OF SOURCE/DRAIN PROCESSES USING THE CARRIER ILLUMINATION~(TM) METHOD
机译:
使用Carrierer Illumination〜(TM)方法对源/排水过程进行非破坏性的阳极后表征
作者:
Peter Borden
;
Laurie Bechtler
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
22.
NON-EQUILIBRIUM MOLECULAR DYNAMIC SIMULATIONS OF LASER THERMAL PROCESSING OF HEAVILY B-DOPED SI
机译:
重掺杂Si激光热加工的非平衡分子动力学模拟
作者:
L. Wang
;
M.O. Thompson
;
P. Clancy
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
23.
PHYSICAL CHARACTERIZATION OF ZrO_2 FILMS ON SILICON AFTER RAPID THERMAL ANNEAL
机译:
快速热退火后硅上ZrO_2薄膜的物理表征
作者:
Yao Zhi Hu
;
Sing-Pin Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
24.
PHYSICAL AND ELECTRICAL PROPERTIES OF ULTRATHIN (< 2.0 nm) RAPID THERMAL SILICON OXYNITRIDES
机译:
超薄(<2.0 nm)快速热硅氧氮化物的物理和电学性质
作者:
M. L. Green
;
T. W. Sorsch
;
W. Gladden
;
Y. Ma
;
W. N. Lennard
;
B. E. Weir
;
D. Monroe
;
P. Silverman
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
25.
A COMPARATIVE STUDY OF CONTACTS TO SILICON-GERMANIUM ALLOYS FOR SUB-100NM CMOS SOURCE/DRAIN JUNCTIONS
机译:
低于100NM CMOS源/漏结的硅锗合金接触的比较研究
作者:
Jing Liu
;
Hongxiang Mo
;
Mehmet C. Oeztuerk
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
26.
WILL THERMAL BUDGET REALLY MATTER IN THE FUTURE?
机译:
将来热预算真的很重要吗?
作者:
D.E. Mercer
;
Amitabh Jain
;
Stephanie Watts Butler
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
27.
REALIZATION OF DEEP P~+ ZONES BY Al THERMOMIGRATION IN A TEMPERATURE GRADIENT RTP FURNACE
机译:
温度梯度RTP炉中铝热迁移法实现深P〜+区的实现
作者:
B. Morillon
;
J-M. Dilhac
;
C. Ganibal
;
C. Anceau
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
28.
RF AND MICROWAVE ANNEALING FOR ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION
机译:
超浅结形成的射频和微波退火
作者:
K. Thompson
;
J.H. Booske
;
D.F. Downey
;
Y. Gianchandani
;
R. Cooper
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
29.
STATE OF THE ART TECHNIQUES FOR ULTRA-SHALLOW JUNCTION FORMATION
机译:
超浅结形成的最新技术
作者:
W. Lerch
;
B. Bayha
;
D. F. Downey
;
E. A. Arevalo
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
30.
The Effect of Deposition Temperature on Grain Structure and Electrical Properties of Amorphous and Polycrystalline Silicon Fabricated by Rapid Thermal Chemical Vapor Deposition for the Application of CMOS Gate Electrodes
机译:
沉积温度对快速热化学气相沉积法制备的CMOS栅电极非晶和多晶硅晶粒结构和电学性能的影响
作者:
Y. Chen
;
Y. Ma
;
W. H. Koh
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
31.
ANALYSIS OF PINMARK INDUCED DEFECTS AFTER RTP
机译:
RTP之后的PINMARK诱发缺陷分析
作者:
J. Niess
;
W. Dietl
;
O. Altug
;
W. Lerch
;
H.D. Geiler
;
H. Karge
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
32.
CHARACTERIZATION OF ULTRA-THIN GATE DIELECTRICS BY GRAZING X-RAY REFLECTANCE AND SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY ON THE SAME INSTRUMENT
机译:
通过在同一仪器上掠射X射线反射率和光谱椭偏光度法表征超薄门电路
作者:
P. Boher
;
J.L. Stehle
;
C. Defranoux
;
S. Bourtault
;
J.P. Piel
;
P. Evrard
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
33.
CHALLENGES OF FORMING ULTRA-THIN GATE OXIDES
机译:
形成超薄门氧化物的挑战
作者:
Reza Arghavani
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
34.
DRY OXIDATION AND IMPLANT ANNEAL IN A SINGLE WAFER RAPID THERMAL FURNACE
机译:
单晶片快速加热炉中的干式氧化和浸渍退火
作者:
Takashi Fukada
;
Woo Sik Yoo
;
Yasuhide Hiraga
;
Kitaek Kang
;
Hirofumi Kitayama
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
35.
ELECTRICAL AND MATERIAL CHARACTERIZATION OF UNIFORM VERY HEAVILY DOPED P~+ POLYSILICON FILMS DEPOSITED BY RTCVD
机译:
RTCVD沉积的均匀重掺杂P〜+多晶硅膜的电气和材料表征
作者:
W. J. Kiether
;
Z. Wang
;
W. Li
;
J. R. Hauser
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
36.
EFFECT OF POSTDEPOSITION RAPID THERMAL ANNEALING OF (1-x)Ta_2O_(5-x)TiO_2 THIN FILMS FORMED BY METALORGANIC DECOMPOSITION
机译:
金属有机分解形成的(1-x)Ta_2O_(5-x)TiO_2薄膜的沉积后快速热退火的作用
作者:
K. M. A. Salam
;
H. Konishi
;
M. Mizuno
;
H. Fukuda
;
S. Nomura
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
37.
FORMATION OF NICKEL SILICIDE IN A SUSCEPTOR-BASED, LOW-PRESSURE RTP SYSTEM
机译:
基于感受器的低压RTP系统中镍硅化物的形成
作者:
Ashur J. Atanos
;
Kiran Reddy
;
Azer Dauz
;
Vijay Parihar
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
38.
EMISSIVITY EFFECTS IN DIFFERENTIAL EPITAXIAL GROWTH
机译:
散发性表皮生长的发射敏感性效应
作者:
E. Aksen
;
W. de Boer
;
D. Terpstra
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
39.
FAST-RAMP, LOW-TEMPERATURE ANNEALING IN THE LEVITOR FLOATING-WAFER SYSTEM
机译:
悬浮浮子晶圆系统中的快速升温,低温退火
作者:
E.H.A. Granneman
;
V.I. Kuznetsov
;
A.B. Storm
;
J.B. Post
;
T. Ritzdorf
;
R.A. Weaver
;
R. Baskaran
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
40.
HIGH QUALITY ULTRA THIN HfO_2 GATE STACK PREPARED BY IN-SITU RT-MOCVD PROCESS
机译:
原位RT-MOCVD工艺制备的高质量超薄HfO_2门极层
作者:
S. J. Lee
;
H. F. Luan
;
W. P. Bai
;
C. H. Lee
;
R. Clark
;
D. Roberts
;
L. Myers
;
D.L. Kwong
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
41.
METAL-OXIDE-SILICON LIGHT EMITTING DIODES PREPARED BY RAPID THERMAL OXIDATION
机译:
快速热氧化法制备的金属氧化物硅发光二极管
作者:
C. W. Liu
;
Y.-H. Liu
;
C. -H. Lin
;
M. H. Lee
;
Miin-Jang Chen
;
Ching-Fuh Lin
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
42.
MULTIPLE SPIKE RTP PROCESS FOR FORMING ULTRA-THIN OXIDES FOR MOS GATE DIELECTRIC APPLICATIONS
机译:
用于MOS栅极电应用的超薄氧化物形成的多重钉RTP过程
作者:
John H. Das
;
Y. B. Jia
;
J. Y. Choi
;
Randhir P. S. Thakur
;
April D. Daniel
;
Ashur J. Atanos
;
Sing Pin Tay
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
43.
SHALLOW JUNCTION FORMATION BY SMALL CLUSTER IMPLANTATION
机译:
小簇植入形成浅结
作者:
Xinming Lu
;
Lin Shao
;
Xuemei Wang
;
Quark Chen
;
Jiarui Liu
;
Wei-Kan Chu
;
Joe Bennett
;
Larry Larson
;
Peiching Ling
会议名称:
《International Symposium on Rapid Thermal and Other Short-Time Processing Technologies II, Mar 24-29, 2001, Washington DC》
|
2001年
意见反馈
回到顶部
回到首页