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Investigation of low field and high temperature SiO_2 and ONO leakage currents using the floating gate technique

机译:使用浮栅技术研究低场和高温SiO_2和ONO泄漏电流

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摘要

In this work a critical analysis of the floating gate technique, for measurement of leakage currents
机译:在这项工作中,提出了对浮栅技术的严格分析,用于测量泄漏电流

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