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Fabrication of metallic nanostructures by negative nanoimprint lithography

机译：负纳米压印光刻技术制备金属纳米结构

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This paper describes a negative nanoimprint lithography (N-NIL) technique for fabricating metallic nanostructures via combining conventional nanoimprint lithography (NIL) with wet chemical etching. Various metallic nanostructures such as gold grating, gold/chromium alternate bimetallic grating and gold nanoelectrode arrays, which are negative replications of the stamp pattern, have been fabricated with N-NIL. This method has demonstrated its advantages on varying the feature size of obtained metallic nanostructures with a single stamp as well as on fabricating bimetallic nanostructures. In addition, it offers a unique path to fabricate micro-nano complex structures in a single imprint process, which compensates the limitation of conventional nanoimprint lithography and maintains the advantages of conventional nanoimprint lithography such as high throughput, low cost and sub-100 nm resolution.
机译：本文介绍了一种负的纳米压印光刻技术（N-NIL），该技术通过将常规的纳米压印光刻技术（NIL）与湿法化学蚀刻相结合来制造金属纳米结构。已经用N-NIL制造了各种金属纳米结构，例如金光栅，金/铬交替双金属光栅和金纳米电极阵列，它们是印模图案的负复制。该方法已经证明了其在改变具有单个印模的获得的金属纳米结构的特征尺寸以及制造双金属纳米结构上的优点。此外，它提供了在单一压印过程中制造微纳米复合结构的独特途径，从而弥补了传统纳米压印光刻技术的局限性，并保持了传统纳米压印光刻技术的优势，例如高通量，低成本和低于100 nm的分辨率。

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