首页> 中国专利> 薄膜干涉测量装置

薄膜干涉测量装置

页面导航

摘要
著录项
法律信息
相似文献

摘要

本实用新型提供一种薄膜干涉测量装置，包括光源、支撑座、载物台、望远镜筒，CCD成像仪，该光源与载物台上的被测样本相对应，该载物台固定于该支撑座上，该载物台可沿该支撑座上、下移动，该支撑座上连接有可绕支撑座旋转的悬臂，该悬臂的端部固定有可上、下移动的调整柱体，该调整柱体上固定有该望远镜筒，调整柱体上与望远镜筒相对应的位置标刻有刻度盘，该望远镜筒的物镜与该载物台上的被测样本相对应，该望远镜筒的目镜与该CCD成像仪的镜头相对应。本实用新型结构简单，实验效果良好。

著录项

公开/公告号CN204791727U

专利类型实用新型
公开/公告日2015-11-18

原文格式PDF
申请/专利权人北京联合大学;
展开▼

申请/专利号CN201520527929.X
发明设计人高兴茹;宗广志;姜玉杰;张继琛;马忱;
展开▼

申请日2015-07-20
分类号
代理机构北京北新智诚知识产权代理有限公司;
代理人赵郁军
地址 100101 北京市朝阳区北四环东路97号
入库时间 2022-08-22 00:55:49

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2019-07-09

未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G09B23/22 授权公告日:20151118 终止日期:20180720 申请日:20150720

专利权的终止
2015-11-18

授权

授权

相似文献

专利
中文文献
外文文献

1. 薄膜干涉测量装置 [P] . 中国专利： CN204791727U . 2015.11.18
2. 光干涉测量方法及光干涉测量装置 [P] . 中国专利： CN102192896A . 2011-09-21
3. Identification methods for polymeric films include white light interferometry for measuring the thickness of thin films, including an identification method for objects containing bipolar thin films, the number of detections, and the use of interferometry. Torture. [P] . CL2009001013A1 . 2010-01-04

机译：用于聚合物膜的识别方法包括用于测量薄膜厚度的白光干涉测量法，包括用于包含双极性薄膜的物体的识别方法，检测次数以及干涉测量法的使用。酷刑。
4. INTERFERENCE MEASURING DEVICE, INTERFERENCE MEASURING PROBE, AND INTERFERENCE MEASUREMENT CONTROL SYSTEM [P] . 日本专利： JPH11132712A . 1999-05-21

机译：干涉测量装置，干涉测量探头和干涉测量控制系统
5. INTERFEROMETRY METHOD AND APPARATUS FOR ELLIPSOMETRY, RELECTOMETRY, AND SCATTEROMETRY MEASUREMENTS, INCLUDING CHARACTERIZATION OF THIN FILM STRUCTURE [P] . 韩国专利： KR101223195B1 . 2013-01-21

机译：椭圆光度法，量测法和比色法的干涉测量方法和装置，包括薄膜结构的表征