洗涤液

摘要： 前风窗洗涤器系统作为人们驾驶过程中必不可少的功能模块,如果发生故障,将会影响雨刮的使用,造成风窗玻璃存积灰尘,减短刮片使用寿命,从而影响驾驶员视野,增加交通事故发生的风险。本文将对前风窗洗涤器系统不喷水问题原因进行探究,为此类问题提供一些分析方向。

摘要： 一、主要成分与含量二、作用与用途用于检测蛋清、泄殖腔棉拭子(胎粪)和细胞分离病毒上清中的禽白血病病毒p27抗原。三、用法与判定1.用法(1)洗涤液的配制使用前,将浓缩的洗涤液恢复至室温(20°C-25°C),并摇动使结晶溶解,然后用超纯水作10倍稀释(例如:每板用40ml浓缩液加上360ml水),即1x洗涤液。

摘要： 为保证干、湿法乙块装置的用水平衡,对干法乙炔装置的排水量和湿法乙炔装置的耗水量进行了精确核查,并针对水平衡的影响因素提出了相应的控制措施。

摘要： 一、吉利帝豪EV500新能源汽车雨刮系统吉利帝豪EV500新能源汽车雨刮系统由中央集控器(BCM)、刮水器/洗涤器开关、前刮水器电机及连杆装置、前刮水臂、洗涤液储液罐、洗涤液泵和洗涤器喷嘴组成,采用传统间歇式雨刮器,有高速、低速、间歇和点动四个工作挡位,无可加热喷水嘴。吉利帝豪EV500新能源汽车雨刮系统工作电路,其电路图(图1所示)安装在转向柱右侧操纵杆上的刮水器开关有高速、低速、间歇和点动4个挡位,控制前雨刮电机的工作控制;雨刮组合开关的喷水开关控制前洗涤电机在前风挡玻璃上喷水。

摘要： 给出氢气处理工艺流程。分析氯化氢合成所需氢气的压力、温度及纯洁度的要求。通过对氢气处理系统进行技改,解决了氢气系统温度高、氢气后冷却器泄漏、氢气压缩机振动等异常情况。

摘要： 带式真空过滤机在我公司运行以来,初期重碱水分实现设计目标.生产过程与现有设备不断磨合,出现现场氨味大,母液膨胀及带滤机母液受阻等不利因素,逐步实施技术改造,取得了较好的效果,现总结成文.

摘要： cqvip:生活废水里面混合了很多物质,比如洗涤液。我们如何才能把这些物质清除呢?

摘要： 白鞋在清洗过后,会有不同程度的洗涤剂残留,而造成鞋子干后发黄的根本原因就是洗涤液中的碱性成分,不想让白鞋变黄,就必须把洗涤剂中的碱性成分吸出来才行。可是为什么一定要选择卫生纸,不选择其他物品呢?

摘要： 混线生产在制造过程中容易出现错加注、漏加注现象。本文介绍了机油加注机及加注联网结构设计方案,并结合案例详细阐述了加注联网防错系统的优势,为提高生产效率及产品质量和精度提供硬件支持。加注机是现代汽车总装生产线上必不可少的关键设备,主要包括汽车冷却液加注机、空调制冷剂加注机、制动液加注机、动力转向液加注机、风窗洗涤液加注机和润滑油加注机(发动机机油或变速器油)等,前面四种属于真空类加注机,后面两种属于定量加注机。

摘要： 为研究洗涤液和洗衣粉在洗衣机养护方面的不同之处,通过波轮式洗衣机分别研究了污物在洗衣机各部位的残留.结果表明:在100个周期机洗试验过程中,使用洗涤液的洗衣机各处的残留明显少于使用洗衣粉的洗衣机；洗涤液可减缓并减少负载布的磨擦和磨损,更好地呵护衣物；洗涤液(较洗衣粉)具有高溶解性、低泡沫量和中性pH值(pH =7～8)的特性,在洗衣机养护方面有较大的优势.

摘要： 大量输入经生理盐水洗涤过的自体血液，可能影响患者的酸碱平衡和电解质，但其是由自体输血自身所致还是与洗涤液本身有关，或是由洗涤所引起，目前尚无定论。本研究采用生理盐水、复方氯化钠溶液、乳酸钠林格氏液三种不同成分的等渗溶液作为洗涤液，观察其对于患者PH值和电解质的影响，为临床提供参考。

摘要： 目的 建立一种测定洗涤液中三氯生含量的方法。方法 用一阶导数紫外分光光度法消除洗涤液中其他成份的干扰，准确测定三氯生的含量。结果 该方法准确度和精密度较高，三氯生高、中、低三个浓度的回收率分别为94.0％，98.4%，102.6％；RSD分别为0.74％，1.11％，0.24%。结论 可以用一阶导数分光光度法测定某些含香精的洗涤液中三氯生的含量。消除香精对三氯生含量测定的干扰。

摘要： 本文通过描述铟高渣进行洗涤回收铟试验,收集分析基础数据,选择适合铟高渣洗涤的洗涤液,论证铟高渣洗涤工艺可行性,为后续生产提供依据.

摘要： 目的：对冰冻红细胞洗涤液Ⅲ进行优化，提高洗涤后红细胞质量。rn 方法：常规法冰冻保存红细胞：37°C解冻红细胞;透析法除去解冻后红细胞中的甘油等;优化冰冻红细胞洗液Ⅲ：在目前国内常用生理盐水的基础上加入保养液，实验分四组，组1对照组(生理盐水)，组2至组4：在组1的基础上分别加入终浓度为5％、10％、20％保养液，观察细胞回收率等指标。rn 结果：用优化的冰冻红细胞洗液Ⅲ洗涤，红细胞回收率(86.6±3.4)高于常用洗液Ⅲ(80.1±2.6)(P<0.05);低速离心制备悬浮红细胞冰冻保存和洗涤后白细胞和血小板残留量(％)分别为0.843±0.058和0.903±0.035达到国家标准(<1％)，其它检测指标均达到国家标准。rn 结论：采用低速离心制备悬浮红细胞和洗液Ⅲ的优化，提高了洗涤后红细胞质量，使透析式冰冻红细胞洗涤机的应用更加安全可靠。

摘要： 本文介绍了硫酸分解酚钠进所产生的废气污染治理的工艺研究、工艺原理及主要设备的设计,洗涤液的选择,分析了该装置投入使用后产生的经济效益.

摘要： 以液体沫化的影响因素为出发点，探讨逆流喷洗装置提高除尘效率的途径，指出在逆喷管中建立稳定的泡沫区是该装置高效的关键。针对冶炼厂的现实情况，提出了提高除尘效率的措施以及今后的改进方向。

摘要： 以液体沫化的影响因素为出发点，探讨逆流喷洗装置提高除尘效率的途径，指出在逆喷管中建立稳定的泡沫区是该装置高效的关键。针对冶炼厂的现实情况，提出了提高除尘效率的措施以及今后的改进方向。

摘要： 以液体沫化的影响因素为出发点，探讨逆流喷洗装置提高除尘效率的途径，指出在逆喷管中建立稳定的泡沫区是该装置高效的关键。针对冶炼厂的现实情况，提出了提高除尘效率的措施以及今后的改进方向。

摘要： 以液体沫化的影响因素为出发点，探讨逆流喷洗装置提高除尘效率的途径，指出在逆喷管中建立稳定的泡沫区是该装置高效的关键。针对冶炼厂的现实情况，提出了提高除尘效率的措施以及今后的改进方向。

摘要： 本申请公开了一种洗涤液投放系统、洗涤设备和洗涤液投放方法。洗涤液投放系统包括：液体管道、液体流动控制器和电子控制模块，液体管道包括用于进水的第一进液口，用于注入洗涤液的第二进液口，以及用于排出液体的至少一个排液口；其中，液体管道还包括第一液体通路和第二液体通路，第一进液口通过第一液体通路与至少一个排液口流体连通，而第二进液口通过第二液体通路与至少一个排液口流体连通；液体流动控制器被耦接在第二液体通路中，其能够被开启和关闭，从而控制洗涤液注入到液体管道内；电子控制模块电耦接到液体流动控制器，用于向液体流动控制器提供控制信号，控制信号用于控制液体流动控制器开启或关闭。

摘要： 本发明的课题是提供用于在半导体元件制造工序中，预先防止抗蚀剂图案形成后或半导体基板加工后产生的半导体基板上所产生的缺陷，为了在光刻工序中，在光刻用药液向半导体制造装置内通液之前，除去药液通液部分所存在的金属杂质等，而用于有效地进行这些杂质的除去的洗涤液。作为解决本发明的课题的方法是一种洗涤液，其用于对制造半导体的光刻工序中所使用的半导体制造装置内的光刻用药液的通液部分进行洗涤，所述洗涤液包含无机酸、水和亲水性有机溶剂。该洗涤液中的无机酸的浓度基于洗涤液的总量优选为0.0001质量％～60质量％。

摘要： 本发明提供一种在浸液曝光过程中能够高效地洗涤除去因为从光致抗蚀剂溶出的成分而导致的曝光装置部位(特别是光学透镜部)的污染物、且废液处理简便、与浸液介质的置换效率高、不阻碍半导体制造生产率的光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法。本发明涉及光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法，其中，所述光刻法用洗涤液在用浸液介质充满于曝光装置的光学透镜部和置于晶片载物台上的曝光对象物之间进行曝光的浸液曝光过程中，用于上述曝光装置的洗涤，所述光刻法用洗涤液含有(a)表面活性剂、(b)烃溶剂及(c)水。

摘要： 本发明提供一种也可具有金属布线的半导体基板用洗涤液及使用它的洗涤方法，其含有用下述通式(1)表示的螯合剂或其盐、碱性化合物及纯水的各成分，而且pH是8～13，(式中，Y1及Y2表示低级亚烷基、n表示0～4的整数，R1～R4和n个R5中的至少4个表示具有膦酸基的烷基的同时，其余的表示烷基。)。即使在使用碱性抛光剂或蚀刻液的工序后使用，也不会产生基板表面的粒子凝胶化而难以除去，或者半导体基板表面容易粗面等问题，可以有效地除去半导体基板表面上的微粒子和来自各种金属的杂质。

摘要： 本发明提出了一种可使用洗涤液袋的洗涤剂投放系统及洗涤液袋，该洗涤剂投放系统包括洗涤液抽取装置、配设于洗涤剂投放系统上的洗涤液储液组件，所述洗涤剂投放系统内设有洗涤液抽取装置，所述洗涤液储液组件上设有用以连接洗涤液袋的管接头组件，所述管接头组件的进液端具有密封插头，所述洗涤液袋的出液端具有与密封插头相插接配合的安装接口，所述洗涤液抽取装置通过管接头组件抽取洗涤液袋内的洗涤液。该洗涤液袋包括储液袋、以及与储液袋的出液管口相通的安装接口。洗涤液袋能够直接安装在洗衣机上，无需频繁进行洗涤液装载，并且可采用非标准软包洗涤袋对洗涤袋进行灌装，能够适用于普通洗涤液袋。

摘要： 本申请公开了一种洗涤液投放系统、洗涤设备和洗涤液投放方法。洗涤液投放系统包括：液体管道、液体流动控制器和电子控制模块，液体管道包括用于进水的第一进液口，用于注入洗涤液的第二进液口，以及用于排出液体的至少一个排液口；其中，液体管道还包括第一液体通路和第二液体通路，第一进液口通过第一液体通路与至少一个排液口流体连通，而第二进液口通过第二液体通路与至少一个排液口流体连通；液体流动控制器被耦接在第二液体通路中，其能够被开启和关闭，从而控制洗涤液注入到液体管道内；电子控制模块电耦接到液体流动控制器，用于向液体流动控制器提供控制信号，控制信号用于控制液体流动控制器开启或关闭。

摘要： 本发明的课题是提供用于在半导体元件制造工序中，预先防止抗蚀剂图案形成后或半导体基板加工后产生的半导体基板上所产生的缺陷，为了在光刻工序中，在光刻用药液向半导体制造装置内通液之前，除去药液通液部分所存在的金属杂质等，而用于有效地进行这些杂质的除去的洗涤液。作为解决本发明的课题的方法是一种洗涤液，其用于对制造半导体的光刻工序中所使用的半导体制造装置内的光刻用药液的通液部分进行洗涤，所述洗涤液包含无机酸、水和亲水性有机溶剂。该洗涤液中的无机酸的浓度基于洗涤液的总量优选为0.0001质量％～60质量％。

摘要： 本发明提供一种在浸液曝光过程中能够高效地洗涤除去因为从光致抗蚀剂溶出的成分而导致的曝光装置部位(特别是光学透镜部)的污染物、且废液处理简便、与浸液介质的置换效率高、不阻碍半导体制造生产率的光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法。本发明涉及光刻法用洗涤液及使用该洗涤液的曝光装置的洗涤方法，其中，所述光刻法用洗涤液在用浸液介质充满于曝光装置的光学透镜部和置于晶片载物台上的曝光对象物之间进行曝光的浸液曝光过程中，用于上述曝光装置的洗涤，所述光刻法用洗涤液含有(a)表面活性剂、(b)烃溶剂及(c)水。

摘要： 本申请公开了一种洗涤液瓶连接装置、洗涤液瓶和洗涤液投放装置。洗涤液瓶连接装置包括缓冲瓶、瓶口连接构件和支架；缓冲瓶包括进料口和出料口，出料口与洗涤液投放装置的洗涤液进液口流体连通；瓶口连接构件用于对接洗涤液瓶的瓶口和缓冲瓶的进料口，使得洗涤液瓶和缓冲瓶流体连通；支架包括安装面板和支撑臂，支撑臂的一端与安装面板固定连接，支撑臂设有缓冲瓶座，缓冲瓶座用于容纳缓冲瓶的至少一部分，瓶口连接构件固定于支撑臂上。

摘要： 本实用新型提出了一种可使用洗涤液袋的洗涤剂投放系统及洗涤液袋，该洗涤剂投放系统包括洗涤液抽取装置、配设于洗涤剂投放系统上的洗涤液储液组件，所述洗涤剂投放系统内设有洗涤液抽取装置，所述洗涤液储液组件上设有用以连接洗涤液袋的管接头组件，所述管接头组件的进液端具有密封插头，所述洗涤液袋的出液端具有与密封插头相插接配合的安装接口，所述洗涤液抽取装置通过管接头组件抽取洗涤液袋内的洗涤液。该洗涤液袋包括储液袋、以及与储液袋的出液管口相通的安装接口。洗涤液袋能够直接安装在洗衣机上，无需频繁进行洗涤液装载，并且可采用非标准软包洗涤袋对洗涤袋进行灌装，能够适用于普通洗涤液袋。