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BN薄膜的ECR CVD制备及结构

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氮化硼是一种有着多种型态,多种优异性能和多种应用的Ⅲ-Ⅴ族二元化合物,多年来一直受到很大关注.本文利用微波电子回旋共振化学气相沉积(MW-ECR CVD)系统制备了BN薄膜.XRD结果表明薄膜为h-BN和r-BN的混合相,指标化结果表明r-BN的晶胞常数分别为a<,0>=2.5025埃.c<,0>=10.0177埃.衍射峰强度的相对变化反映了基面的取向.FTIR结果表明,由B-N-B面外弯曲振动峰的位置,薄膜可确定为a-BN,t-BN或h-BN(r-BN).

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来源
《第二届全国金属功能材料第九届全国非晶态材料和物理第三届全国稀土永磁材料联合学术研讨会》|2001年|128-131|共4页
会议地点北京
作者
张生俊; 陈光华; 严辉; 王波; 张德学; 宋雪梅;
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作者单位

中国金属学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类薄膜的生长、结构和外延;
关键词
化学气相沉积; 薄膜结构; 氮化硼薄膜;

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