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首页> 外文会议>Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX pt.2 >Defining the Role of SEM Metrology for Advanced Process Control
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Defining the Role of SEM Metrology for Advanced Process Control

机译：定义SEM计量学在高级过程控制中的作用

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The creation of such a system with a communication link between the mask designer and lithography and process engineering of consequent operations can be broken down into two problems: 1. Organization of the interaction of services performed by APC; 2. Reliability of the measurement information obtained in SEM CD metrology. We will focus on the second problem. The effectiveness of the operation of the APC system depends on the reliability (precision and accuracy) of the measurement outcomes.
机译：创建具有掩模设计者与光刻之间的通信链接以及后续操作的过程工程的这种系统可以分为两个问题：1.组织由APC执行的服务交互； 2. SEM CD计量学中获得的测量信息的可靠性。我们将专注于第二个问题。 APC系统操作的有效性取决于测量结果的可靠性（精度和准确性）。

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