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徐海铭; 洪根深; 吴建伟; 徐政; 刘国柱;
中国电子科技集团公司第五十八研究所,江苏无锡214072;
埋氧; 总剂量; 加固;
机译:具有掩埋沟道SOI源跟随器的混合体/ SOI CMOS有源像素的总剂量辐射效应
机译:总剂量辐射在具有超薄栅极氧化物的部分耗尽SOI NMOS中引起的浮体效应变化
机译:总剂量辐射下磷离子注入对部分耗尽SOI NMOS背栅效应的影响
机译:用夹层埋氧层的新型SOI高压装置的击穿特性
机译:SOI CMOS技术的辐射效应和温度效应。
机译:TCAD模拟对FD-SOI霍尔传感器辐射效应的研究
机译:使用NPS Linac对硬化的SOI双极晶体管的总剂量辐射效应
机译:使用NpsLINaC对硬化sOI双极晶体管的总剂量辐射效应
机译:抗电离辐射全吸收剂量效应的CMOS / SOI晶体管结构的选择方法
机译:CMOS器件针对总剂量辐射效应进行了硬化
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